[发明专利]用于鞋大底的喷胶轨迹生成系统无效
申请号: | 201210419656.8 | 申请日: | 2012-10-29 |
公开(公告)号: | CN102920112A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 杨崇国 | 申请(专利权)人: | 东莞市意利自动化科技有限公司 |
主分类号: | A43D8/26 | 分类号: | A43D8/26 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人: | 吴世民 |
地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 鞋大底 轨迹 生成 系统 | ||
技术领域
本发明涉及制鞋技术领域,尤其是一种用于鞋大底的鞋帮内侧喷胶轨迹线的生成系统。
背景技术
鞋底喷胶工序是自动化制鞋的关键工艺,而该工艺的自动化关键在于喷胶轨迹的自动生成,自动化设备通过生成的喷胶轨迹执行喷胶工作,因此喷胶轨迹生成的好坏一定程度上直接影响鞋子的质量。
传统的上胶工序多是采用人工刷胶的方式,不仅效率低、精度无法保证,而且操作复杂,生产产品单一,产品质量不稳定,不能满足现代社会和工业对鞋大底喷胶工序自动化的要求。
因此,现有技术有待于改变和提高。
发明内容
针对现有技术中存在的上述问题,本发明的目的是提供一种生产效率高、轨迹精度高、操作简单、柔性好、产品质量稳定的用于鞋大底的喷胶轨迹生成系统。
为实现上述目的,本发明所采用的技术方案是:一种用于鞋大底的喷胶轨迹生成系统,包括机架、安装机架工作台上的输送带,该输送带由PC机控制的电机带动,以及安装于机架上的照相机单元和机械手,所述的照相机单元包括一镭射和两工业照相机,两工业照相机分别位于镭射的两侧,向内倾斜,与主照相机呈30度角;所述的照相机单元固定安装于输送带的正上方,照相机单元将采集的数据通过图像采集卡接入PC机,由PC机中的图像处理软件对采集的数据进行分析处理并生成鞋大底的三维模型及机械手运行的喷胶轨迹线,PC机将需要喷胶的喷胶轨迹线命令送至机械手,由机械手执行喷胶工序。
本发明的有益效果是:通过上述的设计,即采用照相机单元、PC机和机械手的相互配合,通过PC机的图像处理软件对采集到的数据进行分析转换生成鞋大底的三维模型和机械手运行的喷胶轨迹线,实现鞋大底喷胶工序的自动化,解决传统人工上胶工序中存在的效率低、精度不稳定、操作复杂和产品单一等问题,具有效率高、轨迹精度高、操作简单、柔性好、产品质量稳定、环保等特点,满足现代社会和工业对鞋大底喷胶工序自动化的高要求。
本发明设计合理,构思巧妙,具有定位精度高,生产效率高、适应性强等特点,可广泛推广和应用。
附图说明
附图1为本发明的整体系统框架图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的详细说明:
本发明一种用于鞋大底的喷胶轨迹生成系统,包括机架、安装机架工作台上的输送带,该输送带由PC机控制的电机带动,以及安装于机架上的照相机单元和机械手,所述的照相机单元固定安装于输送带的正上方,所述的照相机单元包括一镭射和两工业照相机,两工业照相机分别位于镭射的两侧,向内倾斜,与主照相机呈30度角;所述的照相机单元将采集的数据通过图像采集卡接入PC机,由PC机中的图像处理软件对采集的数据进行分析处理并生成鞋大底的三维模型及喷胶轨迹线,PC机将需要喷胶的喷胶轨迹线命令送至机械手,由机械手执行喷胶工序。
所述的照相机单元为雅马哈机器人视觉系统,其中工业照相机为the imaging source公司的DMK21AU06型产品。
所述的图像处理软件为意利视觉处理软件。
本发明包括两个部分:硬件部分和软件部分。硬件部分包括机架、输送带、照相机单元、机械手和PC机;软件部分包括图像处理和轨迹生成程序。
当电机驱动输送带运动时,照相机单元对输送带上的鞋大底进行2-3秒的扫描,照相机的扫描速度一般为60mm/秒,通过镭射实现抄数,即采集鞋大底表面轮廓线及喷胶轨迹线位于水平面上的的数据即采集每隔0.5mm的点数据,最终由给些轮廓线连贯而成为鞋大底表面轮廓线以及喷胶轨迹线;由两工业照相机采集鞋帮两外侧垂直面上的数据,形成喷胶轨迹线在垂直方向的高度数据;该些数据送至PC机后,由PC机的图像处理软件对图形进行分析,生成待喷胶的鞋大底三维模型,并计算出鞋大底表面轮廓线以及鞋帮内侧喷胶轨迹线的三维点云数据;PC机通过将喷胶轨迹线的数据生成指令发送至机械手,由机械手预设好的喷胶轨迹线进行对鞋大底鞋帮内侧的喷胶工作。
综上所述,本发明能够很好地解决解决传统喷胶工序中存在的效率低、精度不稳定、操作复杂、产品单一等问题,具有效率高、轨迹精度高、操作简单、柔性好、产品质量稳定、环保等特点,可广泛加以推广和运用。
以上对本发明做了详尽的描述,其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明的精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。
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