[发明专利]转印基板和制造显示设备的方法

权利要求书

1.一种转印材料，包含：

用于热转印的支撑材料；和

设置在支撑材料上的转印层，所述转印层包括主体材料和发光掺杂物材料，所述主体材料和发光掺杂物材料都具有转印温度，转印温度之差被设置在预定范围内。

2.按照权利要求1所述的转印材料，

其中转印层包括用于形成发出绿光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的转印温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的转印温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(1)：

-65(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤89(℃)    (1)。

3.按照权利要求1所述的转印材料，

其中转印层包括用于形成发出绿光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的转印温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的转印温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(2)：

-33(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤56(℃)    (2)。

4.按照权利要求1所述的转印材料，

其中转印层包括用于形成发出绿光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的转印温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的转印温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(3)：

-28(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤56(℃)    (3)。

5.按照权利要求1所述的转印材料，

其中转印层包括用于形成发出红光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的转印温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的转印温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(4)：

-111(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤78(℃)    (4)。

6.按照权利要求1所述的转印材料，

其中转印层包括用于形成发出红光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的转印温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的转印温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(5)：

-95(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤51(℃)    (5)。

7.按照权利要求1所述的转印材料，

其中转印层包括用于形成发出红光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的转印温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的转印温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(6)：

-95(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤25(℃)    (6)。

8.按照权利要求1-7任意之一所述的转印材料，

其中所述支撑材料包括光热转换层。

9.一种制造显示设备的方法，包括：

制备转印材料，所述转印材料包括用于热转印的支撑材料，和设置在支撑材料上的转印层，所述转印层包括主体材料和发光掺杂物材料，所述主体材料和发光掺杂物材料都具有转印温度，转印温度之差被设置在预定范围内；

把转印材料布置成与设备基板相对，转印层面对设备基板；和

通过加热转印层均匀地转印主体材料和掺杂物材料，通过把包括主体材料和掺杂物材料的转印层热转印到设备基板上来形成发光层。

10.按照权利要求9所述的制造显示设备的方法，

其中支撑材料包括光热转换层，

其中当进行热转印时，用激光束照射光热转换层。