[发明专利]一种铟锡氧化物靶材的制备方法

权利要求书

1.一种铟锡氧化物靶材的制备方法，其特征在于，采用凝胶注模成型和氧 气氛高温烧结制备ITO靶材；依次包括以下步骤：

（1）以氧化锡和氧化铟的混合粉体，或者氧化锡和氧化铟的化学共沉淀粉体 为原料；

（2）将水溶性环氧树脂溶解在纯水中，再加入分散剂和步骤（1）中的原料 粉体，搅拌并球磨后得到浆料，原料粉体占浆料的固相体积含量为40～60%；

（3）在步骤（2）得到的浆料中加入固化剂和脱气剂，搅拌抽真空除去浆料 中气体，然后浇注入模具，固化、干燥，得到生坯；

（4）对步骤（3）得到的生坯进行脱脂和致密化处理，得到相对密度大于 99.5%、电阻率小于0.1mΩ·cm、具有In₂O₃单相立方结构的铟锡氧化物靶材；

步骤（2）所述的水溶性环氧树脂为海因环氧树脂、乙二醇二缩水甘油醚、 丙三醇缩水甘油醚和山梨醇聚甘油醚中的一种，加入量为纯水的5wt%～30wt%；

步骤（4）中在300～600℃下保温1～5小时脱除生坯中的有机物，然后将脱脂 生坯在1～2倍大气压的纯氧气氛下1450～1700℃保温6～24小时，升温速度 50～100℃/h，降温速度100～200℃/h；降温至600℃随炉冷至100℃出炉。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（1）中氧化锡和氧 化铟混合粉体，以及氧化锡和氧化铟的化学共沉淀粉体中氧化锡的质量含量均为 5～20%，氧化铟的质量含量均为80～95%。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于：步骤（1）中氧化锡 粉体、氧化铟粉体、以及氧化锡和氧化铟的化学共沉淀粉体的平均粒径均限制在 0.02～2微米，原料粉体纯度要求不低于99.99%。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（2）中加入步骤（1） 所述的原料粉体重量0.1%～3%的聚丙烯酸铵作分散剂，聚丙烯酸铵分子量为 4000～12000。

5.根据权利要求1或4所述的制备方法，其特征在于：步骤（2）中球磨时 间为12～48小时；球磨用球为直径5～20mm的氧化锆球。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（3）中加入的固化 剂为二丙烯三胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺和四乙烯五胺中的一种，其加入量为 水溶性环氧树脂重量的9～15%。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（3）中除气之前加 入占浆料0.1～1.5vol%的正丁醇作为脱气剂；搅拌抽真空5～30分钟除去浆料中气 体，然后浇注入模具，温度控制在20～80℃，保持0.5～20h，得到完全固化的生 坯，脱模后在20～100℃干燥12～48小时，得到完全干燥的生坯。

8.根据权利要求1或7所述的制备方法，其特征在于：步骤（3）中成型模 具采用不吸水的高分子、玻璃或金属材料。