[发明专利]粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法

权利要求书

1.一种粒子线照射系统，具备将离子束加速后射出的同步加速器、照射从上述同步加速器射出的上述离子束的照射装置，从上述照射装置多次进行一个单位的照射，其特征在于，包括：

积蓄射束电荷量测量单元，其测量上述同步加速器内的积蓄射束电荷量；

目标电流设定单元，其根据由上述积蓄射束电荷量测量单元测量出的积蓄射束电荷量，设定从上述同步加速器射出的目标射束电流值；以及

出射射束电流修正控制单元，其根据由上述目标电流设定单元求出的上述目标射束电流值，控制射束电流。

2.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

具备：

接收单元，其接收上述多次照射所需的总照射电荷量；以及

出射用控制装置，其计算累计照射电荷量，

在将从上述总照射电荷量中减去上述累计照射电荷量所得的剩余照射电荷量和上述积蓄射束电荷量中的少的一方作为比较电荷量的情况下，在通过上述目标电流设定单元决定上述目标射束电流的目标值时利用上述比较电荷量。

3.根据权利要求2所述的粒子线照射系统，其特征在于，

具备计算一个单位的照射所需的电荷量的照射控制装置，

上述目标电流修正单元利用上述比较电荷量与上述一个单位的照射所需的电荷量的比较值来作为是否需要修正的判断基准。

4.根据权利要求2或3所述的粒子线照射系统，其特征在于，

具备计算一个单位的照射所需的射束电流值的照射控制装置，

上述目标电流设定单元，基于上述一个单位的照射所需的射束电流值修正上述射束电流的目标值，由此决定上述射束电流的目标值。

5.根据权利要求2~4的任意一项所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述目标电流设定单元在上述比较电荷量比上述一个单位的照射所需的电荷量少的情况下，对上述目标射束电流值进行修正以使其比上述一个单位的照射所需的射束电流值小。

6.根据权利要求5所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述目标射束电流值，是按照上述比较电荷量相对于上述一个单位的照射所需的电荷量的比例，对上述一个单位的照射所需的射束电流值进行修正所得的射束电流值。

7.根据权利要求2~6的任意一项所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述目标电流修正单元，在上述比较电荷量比上述一个单位的照射所需的电荷量的2倍少的情况下，对上述目标射束电流值进行修正以使其比上述一个单位的照射所需的射束电流值大。

8.根据权利要求7所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述目标射束电流值，是将上述积蓄射束电荷量除以一个单位的照射所需的扫描时间而得的射束电流值。

9.一种粒子线照射系统的带电粒子束的修正方法，该粒子线照射系统具备将离子束加速后射出的同步加速器、照射从上述同步加速器射出的上述离子束的照射装置，从上述照射装置多次进行一个单位的照射，该粒子线照射系统的带电粒子束的修正方法的特征在于，

照射控制装置计算一个单位的照射所需的射束电流值，

积蓄射束电荷量测量单元测量上述同步加速器内的积蓄射束电荷量，

目标电流设定单元根据上述积蓄射束电荷量对上述一个单位的照射所需的射束电流值进行修正，由此设定从上述同步加速器射出的目标射束电流值，

出射射束电流修正控制单元根据上述目标射束电流值控制射束电流。