[发明专利]一种冗余金属填充方法及装置

权利要求书

1.一种冗余金属填充方法，其特征在于，包括：

沿电路版图的一角，将所述电路版图划分为多个小区域；

计算各小区域内金属块的体积占所述小区域的容积的比率，以得到各小区域的金属填充比率；

计算各小区域的金属填充比率与其相邻的小区域的金属填充比率的差值；

计算各小区域内的金属块的周长；

对所述差值中大于预设值的相邻小区域按照各小区域的金属填充比率与其相邻小区域的金属填充比率的差值以及金属块的周长进行冗余金属填充。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述电路版图划分为多个小区域包括：

将所述电路版图划分为大小相等的多个方格。

3.根据权利要求2或1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在计算各小区域内的金属块的周长之后，沿所述电路版图对角线方向移动第一预设步长，重新将所述电路版图划分为多个小区域，所述重新划分的小区域的个数与第一次划分的小区域的个数相同；

计算重新划分后的各小区域内金属填充比率，以及各小区域与其相邻小区域的金属填充比率的差值；

统计计算出的多个差值中不大于预设值的个数；

确定不大于所述预设值的差值最多时，对应的各小区域的金属填充比率以及小区域内的金属块的周长；

所述对所述差值中大于预设值的相邻小区域按照各小区域的金属填充比率与其相邻小区域的金属填充比率的差值以及金属块的周长进行冗余金属填充包括：

按照确定出的各小区域的金属填充比率以及金属块的周长对所述电路版图中金属填充比率差值大于预设值的相邻小区域进行冗余金属填充。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在计算重新划分后的各小区域内金属填充比率，以及各小区域与其相邻小区域的金属填充比率的差值之后，

再次沿所述电路版图的一角向所述电路版图的对角线方向移动第二预设步长，将所述电路版图划分为所述小区域面积二倍的多个小区域；

计算再次划分后的各小区域的金属填充比率以及与其邻的各小区域的金属填充比率的差值。

5.根据权利要求2或4所述的方法，其特征在于，所述第一预设步长在水平方向上或垂直方向上的分量小于所述方格的边长。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述差值中大于预设值的相邻小区域按照各小区域的金属填充比率与其相邻小区域的金属填充比率的差值以及金属块的周长进行冗余金属填充包括：

将待填充的小区域划分为相等的两个部分；

将划分后的两个部分分别按照与自身相邻的小区域的金属填充比率以及自身的金属块的周长进行冗余金属填充，以使填充后的两个部分与相邻小区域的金属填充比率均不大于所述预设值。

7.一种冗余金属填充装置，其特征在于，包括：

第一划分模块，用于沿电路版图的一角，将所述电路版图划分为多个小区域；

第一计算模块，用于计算各小区域内金属块的体积占所述小区域的容积的比率，以得到各小区域的金属填充比率；

第二计算模块，用于计算各小区域的金属填充比率与其相邻的小区域的金属填充比率的差值；

第三计算模块，用于计算各小区域内的金属块的周长；

第一填充模块，用于对所述差值中大于预设值的相邻小区域按照各小区域的金属填充比率与其相邻小区域的金属填充比率的差值以及金属块的周长进行冗余金属填充。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第一划分模块包括：

第一划分单元，用于将所述电路版图划分为大小相等的多个方格。