[发明专利]用于用干涉测量法测量物体的装置和方法

权利要求书

1.一种用于用干涉测量法测量物体的装置，包括：用于产生输出射线的辐射源，将输出射线分成测量射线和第一参考射线的分光器装置，光学叠加装置和第一检测器，其中，光学叠加装置和第一检测器构造成这样相互协作，使得由物体至少部分地反射的测量射线和第一参考射线在第一检测器的至少一个检测面上叠加，其特征在于，

分光器装置构造成用于将输出射线分成测量射线、第一参考射线和至少一个第二参考射线，

所述用于用干涉测量法测量物体的装置具有至少一个第二检测器，光学叠加装置和第二检测器构造成这样相互协作，使得由物体至少部分地散射的测量射线作为第一接收射线和第二参考射线在第二检测器的至少一个检测面上叠加，

其中，所述至少部分地反射的测量射线与所述测量射线的光轴同轴，所述至少部分地散射的测量射线相对于所述测量射线的光轴倾斜，

其中，所述分光器装置构造成用于将输出射线分成测量射线、第一参考射线、第二参考射线和至少一个第三参考射线，所述用于用干涉测量法测量物体的装置具有至少一个第三检测器，光学叠加装置和第三检测器构造成这样相互协作，使得由物体至少部分地散射的测量射线作为第二接收射线和第三参考射线在第三检测器的至少一个检测面上叠加，

其中，所述用干涉测量法测量物体的装置构造成使得由测量射线和第二参考射线限定的第一平面和由测量射线和第三参考射线构成的第二平面是不同的。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置包括第一物镜，所述第一物镜在物体和第一检测器之间设置在所述测量射线和所述至少部分地反射的测量射线的光程中。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一物镜的数值孔径大于0.1。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一物镜的数值孔径大于0.15。

5.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一物镜的数值孔径大于0.2。

6.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一物镜还在物体和第二检测器之间设置在所述至少部分地散射的测量射线的光程中。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置包括第二物镜，所述第二物镜在物体和第二检测器之间设置在所述至少部分地散射的测量射线的光程中。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第二物镜的数值孔径小于0.15。

9.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第二物镜的数值孔径小于0.1。

10.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，所述装置构造成用于借助于第一检测器进行外差法测量，其方式是，在测量射线和第一参考射线之间设置用于频率偏移的频率偏移装置。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，在测量射线和所有参考射线之间设置用于频率偏移的频率偏移装置。

12.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，所述装置在测量射线和第一参考射线的光程方面构造成共焦显微镜。

13.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，所述第一平面与所述第二平面围成大于45°的角度。

14.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，所述第一平面与所述第二平面围成大于85°的角度。

15.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，在测量射线和至少一个接收射线之间的角度分别小于30°。

16.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，在测量射线和所有接收射线之间的角度分别小于30°。

17.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，所述辐射源构造成纵向单模激光器。

18.根据权利要求17所述的装置，其特征在于，所述辐射源附加地构造成横向单模激光器。

19.根据权利要求18所述的装置，其特征在于，所述辐射源构造成M²因子小于1.5的激光器。

20.根据权利要求1至9之一所述的装置，其特征在于，所述辐射源构造成波长在可见光范围的激光器。