[发明专利]一种接近式光刻机

说明书

技术领域

本发明涉及LCD领域，特别涉及一种接近式光刻机。

背景技术

光刻的本质是把制作在掩膜上的图形复制到以后要进行刻蚀的玻璃基板上。其原理与照相相似，不同的是，玻璃基板与光刻胶代替了照相底片与感光图层。

一般的光刻制程要经历玻璃基板表面清洗烘干、涂底、涂布光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、等工序。

常见的对准曝光工具有：接触式光刻机，接近式光刻机，步进扫描光刻机等。

步进扫描光刻机是一种混合设备，融合了扫描投影光刻机和分布重复光刻机技术，是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到基板上的一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而玻璃基板物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭长光带同时扫过掩膜版和玻璃基板，一旦扫描和图形转移过程结束，玻璃基板就会步进到下一个曝光区域重复这个过程。

接触式光刻机是曝光时掩模压在光刻胶的衬底基板上，由于每一次接触过程中，会在掩模和基板上造成一定的缺陷。因此接触式光刻机一般用于能容忍较高缺陷水平的器件研究和其它应用领域。

接近式光刻机将掩膜与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙，然后进行曝光，如此一来，可以有效避免掩膜与光刻胶基底层直接接触而引起的掩膜损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用。

目前LCD生产制造行业中的彩色滤光片的光刻制程都使用接近式光刻机，其价格远低于步进扫描光刻机，同时也能满足彩色滤光片的各项特性规格，所以业界彩色滤光片的光刻制程均采用接近式光刻设备。但实际生产过程中，由于线宽的要求，接近式光刻机的载台和掩模上彩色滤光片的间隙较小，一般在300um以下，污染和微尘很容易造成掩模缺陷，从而导致彩色滤光片有微观的缺陷或宏观的Mura(一种视觉缺陷，表现为色不均引起的视觉上的色差)，严重影响良率。同时载台也经常受光刻室内环境污染、设备磨屑、制程产品携带如玻璃碎屑等外来异物，甚至载台损伤等异常的影响，常导致产品出现宏观Mura，也会造成良率很大的损失；另外，在实际制造生产过程中，前后不同的彩色滤光片中，位置和形貌相同的共通缺陷和Mura不易界定是掩模或者载台异常所引起。

此外，目前市场上在售或者相关文献提及的光刻设备中，均只涉及单独的掩模缺陷检查或载台缺陷检查的装置，且掩模缺陷的检查都还需要提供检查平台来进行，装置成本高，且光刻机的外观体积和尺寸不易做小。

发明内容

本发明提供了一种接近式光刻机，能够解决掩模台或者载台异常所引起的前后不同彩色滤光片中，位置和形貌相同的共通Mura不易界定的问题。

本发明为解决其技术问题所采用的技术方案在于：

一种接近式光刻机，包括：

光学系统，支架监测装置、载台和掩膜台；其中，

所述支架监测装置安装在非生产状态下的所述载台的原位区的上方，用于对掩膜台和/或载台进行检查；

所述掩膜台在所述载台上方。

在所述的接近式光刻机中，所述接近式光刻机与在线检查机联机。

在所述的接近式光刻机中，所述支架监测装置具有升降和/或在90度范围内旋转的能力。

在所述的接近式光刻机中，所述支架监测装置上设有升降杆，所述升降杆用于升降所述支架监测装置。

在所述的接近式光刻机中，所述支架监测装置包括：

扫描拍照装置，用于扫描缺陷可疑位置并进行拍照比对；

三维支架导杆装置，包括X、Y、Z三个方向的支架导杆，用于携带所述扫描拍照装置；及夹子，用于夹持掩膜。

在所述的接近式光刻机中，所述扫描拍照装置按所述Z向在180度范围内旋转。

在所述的接近式光刻机中，所述扫描拍照装置的光源为LED光源。

在所述的接近式光刻机中，所述夹子包含真空吸附孔和有机材质。

在所述的接近式光刻机中，所述扫描拍照装置和三维支架导杆装置包含双面结构。

在所述的接近式光刻机中，所述接近式光刻机的光源为汞灯源。

实施本发明的一种接近式光刻机，具有以下有益效果：所述支架监测装置能够实现载台和掩膜台共用，分别检查载台和掩膜台，以解决前后不同彩色滤光片中，位置和形貌相同的共通缺陷和Mura是由掩膜台异常还是载台异常所引起的问题。本发明使得接近式光刻机功能更齐全，自动化程度更高，能够减少人员进出高洁净度的机台内部，充分利用了机台内部空间。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：