[发明专利]一种水基光学透镜清洗剂组合物有效

专利信息
申请号: 201210436856.4 申请日: 2012-10-25
公开(公告)号: CN102911821A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 何国锐 申请(专利权)人: 何国锐
主分类号: C11D10/02 分类号: C11D10/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 523000 广东省东莞市大岭山*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光学 透镜 洗剂 组合
【说明书】:

技术领域:

发明涉及一种清洗剂组合物,特指一种水基光学透镜清洗剂组合物。

背景技术:

在光学电子行业,光学透镜经切割、研磨产生的白斑、残留研磨粉、粘结剂、切削油,尘埃,以及镀膜前后残留的指纹、尘埃、油污,传统的是采用氟利昂、三氯乙烷、三氯乙烯等传统卤代烃溶剂清洗,其具有清洗能力强,无闪火点,干燥速度快且可蒸馏回收等优点而被广泛应用,但这种类型的洗净液更存在诸多缺点,对人体、环境和被清洗物都有很大危害。对人体:上述卤代烃溶剂都具有很大的毒性,人体长期接触或吸入蒸气,容易引起肝脏、肾脏、血液中毒,引起头晕、呕吐等,另在温度及光照的作用下,这类溶剂容易分解形成高度物质光气,有致癌作用。对环境:这种类型溶剂难于生物降解,对土壤、水体造成极大的危害,并且它们属于臭氧层破坏物质。对清洗物:卤代烃溶剂易酸化,对设备及电子线路产生腐蚀,影响电气性能,而且卤代烃相容性差,对大部分橡胶、塑料都有溶胀、腐蚀作用。这些ODS产品近年内会相继禁止使用,市场需要有新型环保替代品,而近几年发展起来的水基型清洗液往往采用强碱或者配方中采用焦磷酸钾、三聚磷酸钠等磷化物,以及一些非环保型螯合剂如,乙二酸四乙酸纳盐(EDTA钠盐)和氮川化合物(如NTA)等,EDTA钠盐已经证实在非常难于降解,而NTA等更是被怀疑有很强的致癌性,不仅对环境造成污染,而且对人体的伤害也是不可估量的。因此市场迫切期望开发出能替代ODS物质,又不含有强碱、强酸以及环保型的新型光学透镜清洗剂。

发明内容:

本发明所要解决的技术问题就在于克服上述所存在的不足,提供一种水基光学透镜清洗剂组合物,其不仅能满足大部分金属机加工要求,而且该切削油具有良好的生物降解性,加工期间油雾极少,能够给员工提供良好的作业环境。

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:该水基光学透镜清洗剂组合物的构成原料及重量配比为:

有机碱            5-10份;

无机碱            3-5份;

环保螯合剂        3-5份;

分散剂            10-15份;

渗透剂            15-20份;

去离子水          40-65份。

上述技术方案中,所述水基光学透镜清洗剂组合物的构成原料及重量配比为:

有机碱            5份;

无机碱            3份;

环保螯合剂        3份;

分散剂            12份;

渗透剂            15份;

去离子水          62份。

或,上述技术方案中,所述水基光学透镜清洗剂组合物的构成原料及重量配比为:

有机碱            5份;

无机碱            5份;

环保螯合剂        3份;

分散剂            15份;

渗透剂            20份;

去离子水          52份。

上述技术方案中,所述的有机碱是三乙醇胺或者三异丙醇胺。

上述技术方案中,所述的无机碱是碳酸钠、偏硅酸钠、柠檬酸钠、聚丙烯酸钠中的一种或几种。

上述技术方案中,所述的环保螯合剂是谷氨酸N,N-二乙酸四钠盐。

上述技术方案中,所述的分散剂是脂肪酸甲酯乙氧基化物或脂肪酸甲酯乙氧基化物的磺酸盐。

上述技术方案中,所述的渗透剂是烷基糖苷,碳数为4-14,聚合度为1.2-1.4。

本发明采用的原材料均为商品料,原料易得,价格低廉。本发明所采用的环保螯合剂是一种新型的环保材料,克服了磷酸盐类螯合剂致使水体富营养化的现象,也克服了EDTA钠盐的难于生物降解性和NTA的致癌特性,对环境无污染。本发明所采用的烷基糖苷是由可再生资源天然脂肪醇和葡萄糖合成的,是一种性能较全面的新型非离子表面活性剂,兼具普通非离子和阴离子表面活性剂的特性,具有高表面活性、良好的生态安全性,是国际公认的首选“绿色”功能表面活性剂。

本发明的优点在于:

1、是良好的光学电子清洗行业ODS洗净液替代品。

2、高度浓缩产品,只需3-5%的比例稀释于水中,即可发挥很好的清洗作用。

3、采用环保原料,经口毒性、皮肤接触、吸入毒性极低,对人体安全,易于生物降解。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于何国锐,未经何国锐许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210436856.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top