[发明专利]非包膜缓释型增效氮肥及其制备方法有效
申请号: | 201210440406.2 | 申请日: | 2012-11-07 |
公开(公告)号: | CN102887802A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 张树清;王学江;张文;刘金波 | 申请(专利权)人: | 五洲丰农业科技有限公司 |
主分类号: | C05G3/08 | 分类号: | C05G3/08 |
代理公司: | 烟台双联专利事务所(普通合伙) 37225 | 代理人: | 梁翠荣 |
地址: | 264002 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包膜 缓释型 增效 氮肥 及其 制备 方法 | ||
1.一种非包膜缓释型增效氮肥,其特征在于,所述氮肥由以下组分组成:
γ-聚谷氨酸0.50~1.50%,作为助剂的阻溶剂0.3~1.5%,作为助剂的硝化抑制剂0.3~0.6%,作为助剂的吸附剂0~1.5%,作为助剂的脲酶抑制剂0~0.6%,余量为基础组分;
所述基础组分为铵态氮肥或者硝态氮肥或者酰胺态氮肥;
所述γ-聚谷氨酸的分子量为15~100万道尔顿;
所述的百分比均为质量百分比。
2.如权利要求1所述的非包膜缓释型增效氮肥,其特征在于,所述γ-聚谷氨酸的分子量为50万道尔顿。
3.如权利要求1所述的非包膜缓释型增效氮肥,其特征在于,所述阻溶剂选自硫酸锌、硫酸铜和碳酸钙中的一种或两种以上按任意比例的混合物。
4.如权利要求1所述的非包膜缓释型增效氮肥,其特征在于,所述硝化抑制剂选自硫脲、双氰胺和氰醇中的一种或两种以上按任意比例的混合物。
5.如权利要求1所述的非包膜缓释型增效氮肥,其特征在于,所述吸附剂为氯化钙和氯化镁中的一种或两种按任意比例的混合物;吸附剂的用量为0.5~1.5%。
6.如权利要求1所述的非包膜缓释型增效氮肥,其特征在于,所述的脲酶抑制剂为硫酸亚铁、硼酸、乙酰甲胺磷和甲胺中的一种或两种以上按任意比例的混合物;脲酶抑制剂的用量为0.1~0.6%。
7.一种如权利要求1~6之任意一项所述的非包膜缓释型增效氮肥的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)、制备γ-聚谷氨酸混合物:按比例称取γ-聚谷氨酸和助剂,混合得到γ-聚谷氨酸混合物;
2)、将粉状的基础组分与步骤1)得到的γ-聚谷氨酸混合物进行混合,经辊压机辊压成型为片状,降至温常;
3)、采用反击式造粒方式进行造粒;
所述的反击式造粒方式是指:经辊压机辊压成型为片状的的物料降至常温后,首先通过分别带有一组辊齿板并相向转动的一对预挤压辊,被挤压辊的辊齿破碎为小片物料;
所述的小片物料被固定的一级挤压板与带有辊齿板并处于转动状态的主挤压辊挤压破碎为大颗粒和包括粉料在内的小颗粒两部分;其中的大颗粒部分被二级挤压板与所述主挤压辊挤压破碎为包括粉料在内的小颗粒;所述的小颗粒经过主挤压辊与固定于主挤压辊左右两侧的整形板之间的两个通道,被挤压为外径尺寸复合规格要求的成品颗粒。
8.如权利要求7所述的非包膜缓释型增效氮肥的制备方法,其特征在于,步骤3)采用专用反击造粒机进行造粒;所述的专用反击造粒机包括上端带有进料口(2)、下端带有出料口(12)的容器状的机壳(1),在机壳(1)围成的腔体中由进料口(2)至出料口(12)方向依次设置有一对分别带有若干个辊齿板的预挤压辊(4)、一级挤压板(6)和二级挤压板(8),在所述腔体中设置有带有若干个辊齿板的主挤压辊(10),并在所述腔体中设置有分别位于主挤压辊(10)左右两侧的第一整形板(11)和第二整形板(13);进料口(2)至一对预挤压辊(4)之间的空间构成第一腔室(3),一对预挤压辊(4)、一级挤压板(6)和主挤压辊(10)之间构成第二腔室(5),一级挤压板(6)、二级挤压板(8)和主挤压辊(10)之间构成第三腔室(7),二级挤压板(8)、第一整形板(11)和主挤压辊(10)之间构成第四腔室(9),第二整形板(13)和主挤压辊(10)之间构成第五腔室(14),其中,第四腔室(9)和第五腔室(14)的下端分别与出料口(12)相通;第一腔室(3)与第二腔室(5)之间的物料通道为预挤压辊(4)与机壳(1)内壁之间的间隙以及两预挤压辊(4)之间的间隙;第二腔室(5)与第三腔室(7)之间的物料通道为一级挤压板(6)与主挤压辊(10)之间的间隙;第三腔室(7)与第四腔室(9)之间的物料通道为二级挤压板(8)与主挤压辊(10)之间的间隙。
9.如权利要求8所述的非包膜缓释型增效氮肥的制备方法,其特征在于:所述的第一整形板(11)和第二整形板(13)具有如下形状:它们与主挤压辊(10)相对的侧面设置有若干个台阶,且每个整形板的若干个台阶内端自上至下逐渐靠近主挤压辊(10),最下端的台阶上表面内端与主挤压辊(10)的辊齿板外沿所处的圆周线(15)之间的距离根据成品颗粒的外径尺寸设定。
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