[发明专利]用于处理平的衬底的设备和方法

权利要求书

1.用于在连续的过程中处理平的衬底的设备，带有

a）槽容器（6），所述槽容器用液态的处理介质（10）填充直到一定液位（8）；

b）运输装置（16），借助于所述运输装置，衬底（4）能够通过引导元件（24）在水平的运输平面（20）中沿运输方向（18）引导地运输通过所述处理介质（10），使得所述衬底（4）的至少一个处理侧（26）浸入到所述处理介质（10）中；

c）循环装置（32），所述处理介质（10）借助于所述循环装置能够在所述槽容器（6）中循环，并且所述循环装置包括抽吸装置（34）和输出装置（36），通过所述抽吸装置将处理介质（10）从所述槽容器（6）中抽出，抽出的所述处理介质（10）通过所述输出装置又输出到所述槽容器（6）中，

其特征在于，

d）迎流元件（24；51）在所述槽容器（6）中设置在低于所述运输平面（20）的高度水平上；

e）所述循环装置（32）的所述输出装置（36）包括输出喷嘴（44），所述输出喷嘴设置在低于所述迎流元件（24；51）的高度水平上并且设计成，使得所述输出喷嘴（44）中的每一个都目的明确地朝向所述迎流元件（24；51）中的每一个输出所述处理介质（10）的主要部分（48）。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，输出喷嘴设置在从上方观察位于迎流元件（24；51）的净轮廓（50）之内的区域中，其中相应的净轮廓（50）通过如下的所述迎流元件（24；51）限定，相应的输出喷嘴（44）将所述处理介质（10）输出到所述迎流元件上。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述输出装置（36）具有多个带有输出开口（46）的喷嘴条（42），其中每个输出开口（46）形成输出喷嘴（44）。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，喷嘴条（42）彼此平行地并且平行于所述衬底（4）的所述运输方向（18）设置。

5.根据权利要求3或4所述的设备，其特征在于，喷嘴条（42）垂直于所述运输方向（18）设置。

6.根据权利要求4或5所述的设备，其特征在于，喷嘴条（42）设置在共同的水平面中。

7.根据权利要求1至6之一所述的设备，其特征在于，所述输出装置（36）包括多个分别形成输出喷嘴（44）的单独喷嘴（54）。

8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述单独喷嘴（54）能够单独地或者以由两个或多个单独喷嘴（54）组成的组的形式被输送有循环的处理介质（10）。

9.根据权利要求1至8之一所述的设备，其特征在于，输送给所述输出装置（36）的循环的处理介质（10）的体积流是能够调节的。

10.根据权利要求1至9之一所述的设备，其特征在于，所述循环装置（32）设计成，使得

a）将循环的处理介质（10）始终以相同的体积流输送给全部输出喷嘴（44）；

或者

b）能够将处理介质（10）的单独的体积流输送给各个输出喷嘴（44）或由两个或多个输出喷嘴（44）组成的组，而与其余的所述输出喷嘴（44）无关或者与由两个或多个输出喷嘴（44）组成的其余的组无关。

11.根据权利要求1至10之一所述的设备，其特征在于，所述迎流元件（24）通过所述运输装置（16）的所述引导元件（24）形成。

12.根据权利要求11所述的设备，其特征在于，所述迎流元件（24）构造成运输辊（24），所述衬底（4）平放在所述运输辊（24）上。

13.用于处理平的衬底的方法，其中

a）将所述衬底（4）通过引导元件（24）在水平的运输平面（20）中沿运输方向（18）在连续的过程中引导地运输通过液态的处理介质（10），使得所述衬底（4）的至少一个处理侧（26）浸入到所述处理介质（10）中；

b）所述处理介质（10）借助于循环装置（32）循环，

其特征在于，

c）将循环的处理介质（10）的主要部分（48）从低于迎流元件（24；51）的高度水平目的明确地朝向所述迎流元件（24；51）输出，所述迎流元件（24；51）本身在所述槽容器（6）中设置在低于所述运输平面（20）的高度水平上。