[发明专利]利用无缓冲剂制造工艺形成薄膜太阳能电池的方法有效
申请号: | 201210448358.1 | 申请日: | 2012-11-09 |
公开(公告)号: | CN103107216A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 李文钦;余良胜;严文材;邱永升 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 缓冲剂 制造 工艺 形成 薄膜 太阳能电池 方法 | ||
1.一种薄膜太阳能电池,包括:
底部电极层,形成在衬底上;
半导体吸收剂层,形成在所述底部电极层上,所述吸收剂层具有p-型内部区和由所述p-型内部区的改性本征部分形成的n-型外部区,其中,n-型区和p-型区形成n-p结,所述n-p结是所述吸收剂层的固有部分;以及
顶部电极层,形成在所述吸收剂层上,所述顶部电极层经由限定所述吸收剂层中的侧壁的划线电连接至所述底部电极层;
其中,所述吸收剂层的所述n-型外部区在所述划线中的侧壁上延伸。
2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述n-型外部区包括所述吸收剂层的水平顶部部分和所述吸收剂层的沿着所述划线的侧壁延伸的垂直部分。
3.根据权利要求2所述的太阳能电池,其中,所述n-型外部区的所述顶部部分和所述垂直部分是相邻的。
4.根据权利要求2所述的太阳能电池,其中,所述划线是P2划线,所述P2划线通过所述吸收剂层将垂直通道形成至所述底部电极的顶表面,所述划线填充有来自接触所述吸收剂层的垂直n-型外部区的所述顶部电极层的材料。
5.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述n-型外部区的深度等于或小于200nm。
6.根据权利要求5所述的太阳能电池,其中,所述n-型外部区的深度为大于或等于约20nm至小于或等于约100nm。
7.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述吸收剂层包括硫属化物材料。
8.根据权利要求7所述的太阳能电池,其中,所述吸收剂层包括选自由Cu(In,Ga)Se2、Cu(In,Ga)(Se,S)2、CuInSe2、CuGaSe2、CuInS2、和Cu(In,Ga)S2组成的组的材料。
9.一种用于形成薄膜太阳能电池的方法,包括:
在衬底上形成导电的底部电极层;
在所述底部电极层上形成p-型吸收剂层;
在所述吸收剂层中形成开放的划线,所述划线限定所述吸收剂层上露出的侧壁;以及
将所述划线中的所述p-型吸收剂层的露出侧壁转化为n-型外部区。
10.一种用于形成薄膜太阳能电池的方法,包括:
在衬底上形成导电的底部电极层;
在所述底部电极层上形成p-型吸收剂层,所述吸收剂层具有露出的水平顶表面;
在所述吸收剂层中形成开放的划线,所述划线在所述吸收剂层上形成露出的垂直侧壁并露出所述底部电极层的顶表面;
在所述划线形成后,立即将所述划线中的所述p-型吸收剂层的露出的侧壁和顶表面转化为n-型区,其中,所述吸收剂层具有仍为p-型的内部区;以及
在所述吸收剂层上方形成导电的顶部电极层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210448358.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种钻杆接头耐磨带
- 下一篇:单速固定齿卡匣式结合的自行车花毂结构
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的