[发明专利]一种修补液晶显示阵列基板断线的方法及装置有效
申请号: | 201210448371.7 | 申请日: | 2012-11-12 |
公开(公告)号: | CN102914888A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 郑文达 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人: | 潘中毅;熊贤卿 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 修补 液晶显示 阵列 断线 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD)制造技术,特别涉及一种修补液晶显示阵列基板断线的方法及装置。
背景技术
在现有技术中,在TFT-LCD阵列基板(array)制程中常常会出现线路断开缺陷(line open defect)的情形。此时需要对断开的线路进行补线,以重新连通所述线路。
如图1所示,是现有的一种阵列基板上的图案线路出现断线情形的示意图;图1只示出了局部的阵列基板。其中,在基板1进行镀膜,形成第一图案2和第二图案3。其中第二图案在40和41处断开,从而将图案3断开成三部份(30、31、32)。
如图2所示,示出了现有的一种补线结构的示意图。从中可以看出,可以重新镀膜一条补线路径4,其一端与图案3的30区域相连通,另一端与图案3的32区域相连通,从而将图案3重新连通。
如图3所示,是根据图2的A-A向剖面的补线后的结构示意图;从图2的A-A向剖面可以看出,补线装置5(图中仅示出了一部份)沿着图2中的补线路径从左向右均速移动进行镀膜,在横跨图案2的位置处,由于图案2与基板1存在较大的高度变化,容易在补线路径4出现断裂、不连续的情形,从而使补线失败,从而导致基板的良率不够理想。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,提供一种修补液晶显示阵列基板断线的方法及装置,可以提高修补液晶显示阵列基板断线时的成功率。
为了解决上述技术问题,本发明实施例的一方面提供了一种修补液晶显示阵列基板断线的方法,包括如下步骤:
在发现液晶显示阵列基板上的图案出现断线时,确定所述图案的断线处的补线路径,并扫描所述补线路径;
根据所述补线路径的扫描结果,将所述补线路径分成至少两段路径区间,并为所述每一段路路径区间设置对应的镀膜速度;
在每段路径区间上,以所确定的对应的镀膜速度进行镀膜,使所述补线路径上形成连通的镀膜。
其中,所述扫描所述补线路径的步骤为:
通过白光干涉或激光扫描的方式对所述补线路径进行扫描,获得所述补线路径上每点的高度数据。
其中,根据所述补线路径的扫描结果,将所述补线路径分成至少两段路径区间,并为所述每一段路路径区间设置对应的镀膜速度的步骤具体为:
将所述补线路径分成至少两段路径区间;
根据每一路径区间中各点的高度数据的变化大小,为所述路径区间设置对应的镀膜速度,其中,为所述高度数据变化大的路径区间设置更慢的镀膜速度。
其中,根据所述补线路径的扫描结果,将所述补线路径分成至少两段路径区间,并为所述每一段路路径区间设置对应的镀膜速度的步骤具体为:
根据所述补线路径的扫描结果,确认所述补线路径上经过的所述阵列基板已经镀好的图案线条边缘的区间;
将所述补线路径上的经过图案线条边缘的区间与未经过图案线条边缘的区间分别设置成不同的路径区间;
为所述经过图案线条边缘的路径区间设置更慢的镀膜速度,为其他未经过图案线条边缘的路径区间设置较快的镀膜速度。
其中,所述补线路径上所形成连通的镀膜将所述出现断线的图案的断线处重新连通,而与其经过的其他未出现断线的图案之间绝缘。
相应地,本发明实施例的另一方面提供一种修补液晶显示阵列基板断线的装置,包括:
检测模块,用于检测液晶显示阵列基板上的图案是否出现断线;
扫描模块,用于在所述检测装置检测至液晶显示阵列基板上的图案出现断线时,确定并扫描为所述图案的断线处的补线路径;
设置模块,根据所述扫描模块的扫描结果,将所述补线路径分成至少两段路径区间,并为所述每一段路路径区间设置对应的镀膜速度;
镀膜装置,在所述设置模块所设置的每段路径区间上,以所确定的对应的镀膜速度进行镀膜,使所述补线路径上形成连通的镀膜。
其中,所述扫描模块是通过白光干涉或激光扫描的方式对所述补线路径进行扫描,获得所述补线路径上每点的高度数据。
其中,所述设置模块是根据每一路径区间中各点的高度数据的变化大小,为所述路径区间设置对应的镀膜速度,其中,为所述高度数据变化大的路径区间设置更慢的镀膜速度。
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