[发明专利]制取高浓度臭氧及残余氧气回收再利用的设备有效
申请号: | 201210450039.4 | 申请日: | 2012-11-12 |
公开(公告)号: | CN102976275A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 蹇守民 | 申请(专利权)人: | 蹇守民 |
主分类号: | C01B13/11 | 分类号: | C01B13/11 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 610000 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制取 浓度 臭氧 残余 氧气 回收 再利用 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种以氧气为原料、经电晕放电制取臭氧的设备,特别制取高浓度臭氧及残余氧气回收再利用的设备。
背景技术
目前臭氧已被广泛应用于水处理、医药、食品工业等众多领域,目前制备臭氧的方法主要有两种:一种是电解法,直流电解纯净水,通过膜技术将电解得到的氢和氧分离,从而得到臭氧;另一种是高压电晕放电制取臭氧。这两种方法所得臭氧浓度都很低。前者的臭氧含量约为20%,其余80%左右为氧气;后者的臭氧 含量更低,以氧气为原料,臭氧含量约为10%,其余90%左右为氧气,若以空气为原料臭氧含量仅为百分之几,其余部分为氮气、氧气以及其它氮氧化物等。虽然人们在臭氧发生器的结构、介质(如搪瓷)的成分、催化剂等方面进行了不少改进,但是收效甚微,而且未充分反应的氧气也没有回收利用。
臭氧浓度低影响了臭氧在众多领域的应用,比如用在纸浆漂白,会影响漂白效果、效率;用在治疗上会影响对臭氧用量和浓度的精确掌控,用于水处理会影响水的处理效果等等。因此,如何提高臭氧的浓度是臭氧界关注的课题。
中国专利200520084258.0公开了一种医用臭氧发生器,包括柜体,柜体内安装有与高压电极连接的放电室,放电室内有带搪瓷涂层的非玻璃放电体,利用搪瓷涂层这一特殊材料,充分发挥高频电源的效率,进一步提高臭氧浓度,但是这种方法的效果并不明显,仍然无法满足工业生产需要。
中国专利200420009334.7公开了氧气-臭氧发生器,利用变压吸附式分子筛将空气中的氧气吸附,得到高浓度的氧气,再用臭氧发生器得到臭氧,但是所制取的臭氧中仍然含有大量的氧气成分,其中臭氧含量约为10%~20%,而氧气的含量约为80%~90%。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种得到的臭氧浓度高、残余氧气回收利用、结构简单的制取高浓度臭氧及残余氧气回收再利用的设备。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:制取高浓度臭氧及残余氧气回收再利用的设备,它包括氧气缓冲罐、臭氧发生器、混合气体缓冲罐、变压吸附塔A、变压吸附塔B、增压泵和臭氧储存罐,氧气缓冲罐的输出端与臭氧发生器的输入端相连,臭氧发生器的输出端与混合气体缓冲罐的输入端相连,混合气体缓冲罐与并联设置的变压吸附塔A和变压吸附塔B相连,变压吸附塔A和变压吸附塔B都分别设置有氧气出口和臭氧出口,变压吸附塔A和变压吸附塔B的氧气出口与氧气缓冲罐之间设置有增压泵,变压吸附塔A和变压吸附塔B的臭氧出口与臭氧储存罐相连。
所述的变压吸附塔A和变压吸附塔B内设有吸氧装置,变压吸附塔A和变压吸附塔B的输入端与混合气体缓冲罐的输出端之间分别安装有阀门C和阀门D,变压吸附塔A和变压吸附塔B的臭氧出口与臭氧储存罐的输入端之间分别设置有单向阀A和单向阀B,增压泵与变压吸附塔A和变压吸附塔B之间分别安装有阀门A和阀门B。
所述的变压吸附塔A和变压吸附塔B内设有吸臭氧装置,变压吸附塔A和变压吸附塔B的输入端与混合气体缓冲罐的输出端之间分别安装有阀门C和阀门D,变压吸附塔A和变压吸附塔B的臭氧出口与臭氧储存罐的输入端之间分别设置有阀门A和阀门B,增压泵与变压吸附塔A和变压吸附塔B之间分别安装有单向阀A和单向阀B。
所述的阀门A、阀门B、阀门C和阀门D都为电磁阀或气动阀。
所述的变压吸附塔A和变压吸附塔B之间还设置有调节阀。
本发明具有以下优点:
1、利用变压吸附技术,将制得的臭氧和氧气分离,得到高浓度的臭氧,适用范围广,能满足高浓度臭氧需求。
2、变压吸附塔将氧气吸附饱和后,通过调节阀调节压力,将吸附的氧气释放,利用增压泵将氧气抽回氧气缓冲罐,实现残余氧气回收再利用。
3、整套设备结构简单,易于操作。
附图说明
图1 为本发明的实施例1的结构示意图
图2 为本发明的实施例2的结构示意图
图中:1-氧气缓冲罐,2-臭氧发生器,3-混合气体缓冲罐,4-变压吸附塔A,5-变压吸附塔B,6-阀门A,7-阀门B,8-阀门C,9-阀门D,10-单向阀A,11-单向阀B,12-调节阀,13-增压泵,14-臭氧储存罐,15-吸氧装置,16-吸臭氧装置。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明做进一步的描述,但本发明的保护范围不局限于以下所述。
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