[发明专利]一种去除光阻蚀刻残留物的清洗液

权利要求书

1.一种去除光阻蚀刻残留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液由氟化物、有机溶剂、水、氧化剂以及螯合剂组成，其中所述氧化剂选自双氧水、过硫酸、过硫酸铵、过氧乙酸、过氧乙酸铵中的一种或多种，所述有机溶剂的含量为10-75wt％，所述氧化剂的含量为0.5-5wt％，所述的氟化物选自氟化铵、氟化氢铵中的一种或多种；清洗温度为20℃-50℃；所述的螯合剂选自有机多胺、有机多元酸中的一种或多种；所述有机多胺选自二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺和多乙烯多胺中的一种或多种；所述有机多元酸选自乙二酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、富马酸、马来酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、亚氨基二乙酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、反-1,2-环己二胺四乙酸中的一种或多种；所述螯合剂的含量为0.05-20wt％。

2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述氟化物的含量为0.05-20wt％。

3.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述有机溶剂的含量为20-60wt％。

4.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述水的含量为15-85wt％。

5.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的有机溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺、醇、醇胺和醇醚中的一种或多种。

6.如权利要求5所述的清洗液，其特征在于，所述的亚砜选自二甲基亚砜和甲乙基亚砜中的一种或多种，所述的砜选自甲基砜、环丁砜中的一种或多种；所述的咪唑烷酮选自2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一种或多种；所述的吡咯烷酮选自N-乙基吡咯烷酮、N-环己基吡咯烷酮和N-羟乙基吡咯烷酮中的一种或多种；所述的咪唑啉酮为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的酰胺选自二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一种或多种；所述的醇选自异丙醇、丙二醇和丙三醇中的一种或多种；所述的醇胺选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一种或多种；所述的醇醚选自乙二醇烷基醚、丙二醇烷基醚中的一种或多种。

7.如权利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述的乙二醇烷基醚选自乙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚和二乙二醇单丁醚中的一种或多种；所述的丙二醇烷基醚选自丙二醇单甲醚、丙二醇单丁醚和二丙二醇单甲醚中的一种或多种。

8.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液不含有无机和/或有机的纳米和/或微米颗粒。