[发明专利]延伸薄膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210452664.2 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN103724954A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 吴建邦;吴志宏;时国诚;洪启源;李家豪;吴耀祖;陈志勇 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C08L67/04 分类号: C08L67/04;C08L53/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 延伸 薄膜 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种延伸薄膜,包括:

聚乳酸;以及

嵌段共聚物,包含:

第一嵌段,具有苯乙烯系重复单元构成的链段;

第二嵌段,具有选自丙烯酸酯系重复单元及甲基丙烯酸酯系重复单元所组成组的至少一种重复单元构成的链段;以及

第三嵌段,具有包含环氧基的乙烯系重复单元构成的链段,其特征在于,该第一嵌段、第二嵌段和第三嵌段通过化学键结合。

2.如权利要求1所述的延伸薄膜,其特征在于,该嵌段共聚物具有式(I)表示的结构:

式(I)

式中,R1表示C1-C8烷基,R2表示C2-C6伸烷基,X表示苯乙烯系重复单元,Y表示选自丙烯酸酯系重复单元及甲基丙烯酸酯系重复单元所组成组的至少一种重复单元,Z表示包含环氧基的乙烯系重复单元,n表示10至30的整数,m表示10至100的整数,以及p表示10至100的整数。

3.如权利要求1所述的延伸薄膜,其特征在于,该嵌段共聚物具有式(II)表示的结构:

式(II)

式中,R1表示C1-C8烷基,R2表示C2-C6伸烷基,X表示苯乙烯系重复单元,Y表示选自丙烯酸酯系重复单元及甲基丙烯酸酯系重复单元所组成组的至少一种重复单元,Z表示包含环氧基的乙烯系重复单元,n表示10至30的整数,m表示10至100的整数,以及p表示10至100的整数。

4.如权利要求1所述的延伸薄膜,其特征在于,该苯乙烯系重复单元由选自下列所组成组的至少一种单体形成:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、邻乙基苯乙烯、对乙基苯乙烯及对第三丁基苯乙烯;

该丙烯酸酯系重复单元由选自下列所组成组的至少一种单体形成:丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环十二烷酯、丙烯酸氯甲酯、丙烯酸2-氯甲酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸2,3,4,5,6-五羟基己酯及丙烯酸2,3,4,5-四羟基戊酯;

该甲基丙烯酸酯系重复单元由选自下列所组成组的至少一种单体形成:甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸环十二烷酯、甲基丙烯酸氯甲酯、甲基丙烯酸2-氯甲酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸2,3,4,5,6-五羟基己酯及甲基丙烯酸2,3,4,5-四羟基戊酯;以及

该包含环氧基的乙烯系重复单元由选自下列所组成组的至少一种单体所形成:丙烯酸环氧丙酯、甲基丙烯酸环氧丙酯、乙基丙烯酸环氧丙酯及衣康酸环氧丙酯。

5.如权利要求1所述的延伸薄膜,其特征在于,该嵌段共聚物具有式(III)表示的结构:

式(III)

式中,n表示10至30的整数,m表示10至100的整数,以及p表示10至100的整数。

6.如权利要求1所述的延伸薄膜,其特征在于,该延伸薄膜具有90至112℃的玻璃转化温度。

7.如权利要求1所述的延伸薄膜,其特征在于,该延伸薄膜具有90至93%的透光率。

8.一种制造延伸薄膜的方法,包括下列步骤:

混合聚乳酸及嵌段共聚物,以形成混合物;

挤出该混合物以形成板体;以及

延伸该板体以形成延伸薄膜,其特征在于,该嵌段共聚物包含具有苯乙烯系重复单元构成的链段的第一嵌段;具有选自丙烯酸酯系重复单元及甲基丙烯酸酯系重复单元所组成组的至少一种重复单元构成的链段的第二嵌段;以及具有包含环氧基的乙烯系重复单元构成的链段的第三嵌段,且该第一嵌段、第二嵌段和第三嵌段通过化学键结合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210452664.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top