[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法和显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括位于基板上的第一透明电极层，位于所述第一透明电极层上的黑矩阵的图形，在所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成的均匀排列的显示单元，覆盖所述显示单元及所述黑矩阵的图形的第二透明电极层；

其中所述每个显示单元包括多个用于显示图像的子像素材料层的图形，所述显示单元还包括：用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：覆盖所述第二透明电极层的树脂层。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一透明电极层和/或所述第二透明电极层对应所述用于显示图像子像素材料层的图形的部分被去除。

4.根据权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：

所述ECD子像素材料层为黄色或白色或任意颜色。

5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成一层第一透明电极层；

在所述第一透明电极层上形成黑矩阵的图形；

在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成用于显示图像的子像素材料层的图形；

在所述第一透明电极上所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形；

在所述黑矩阵的图形及所述像素区域的所有子像素材料层的图形上形成一层第二透明电极层。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述第二透明电极层上形成一层树脂层。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在基板上形成一层第一透明电极层后，还包括：

通过一次构图工艺去除所述第一透明电极层对应所述用于显示图像的子像素材料层的图形的部分。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在所述黑矩阵的图形及所述像素区域的所有子像素材料层的图形上形成一层第二透明电极层后，还包括：

通过一次构图工艺去除所述第二透明电极层对应所述用于显示图像的子像素材料层的的图形的部分。

9.根据权利要求5～8所述的任一方法，其特征在于，所述ECD子像素材料层的图形为无机电致变色材料，或者有机电致变色材料，或者有机无机复合电致变色材料。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，

所述有机电致变色材料包括但不限于：聚噻吩类及其衍生物，或紫罗精类，或四硫富瓦烯，或金属酞菁类化合物，或聚苯胺类化合物；

所述无机电致变色材料包括：三氧化钨，或三氧化钼，或五氧化二钒。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形的步骤包括：

采用喷墨inkjet工艺或掩膜mask刮涂工艺将所述无机电致变色材料的稀凝胶制备在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域内形成用于控制显示对比度的ECD子像素的区域；

在50℃～70℃的范围内加热，形成用于控制显示对比度的ECD子像素材料层的图形。

12.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形的步骤包括：

在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域内采用喷墨inkjet工艺将所述有机电致变色材料制备在用于控制显示对比度的ECD子像素的区域。

13.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1～4所述的任一彩膜基板。