[发明专利]一种高精密度快速痕量分析装置

权利要求书

1.一种高精密度快速痕量分析装置，其特征在于包括有能发出稳定时频域的探测光源的光纤光梳装置（1），以及让探测光源通过的装有待测样品的样品池（4）和能发出与探测光源的重复频率不同的本振光源的本振光源装置（5），此外，还包括有多个能对光探测光源和本振光源进行透射和反射的半透半反镜（2）和能将探测光源和本振光源进行反射的全反镜（3），将经过样品池（4）和未经过样品池（4）的探测光源和本振光源进行拍频的双光拍频装置（6）和将拍频信号进行差分滤波放大的平衡探测装置（7）。

2.根据权利要求1所述的一种高精密度快速痕量分析装置，其特征在于所述的光纤光梳装置（1）包括有掺铒光纤激光器（11）和掺铒光纤放大器（12）。

3.根据权利要求1所述的一种高精密度快速痕量分析装置，其特征在于所述的样品池（4）为空心光子晶体光纤。

4.根据权利要求1所述的一种高精密度快速痕量分析装置，其特征在于所述的双光拍频装置（6）包括有第一高速光电探测器（61）和第二高速光电探测器（62），所述的第一高速光电探测器（61）探测经过样品池（4）的探测光源和本振光源，所述的第二高速光电探测器（62）探测未经过样品池（4）的探测光源和本振光源。

5.根据权利要求1所述的一种高精密度快速痕量分析装置，其特征在于所述的平衡探测装置（7）包括将第二高速光电探测器（62）的拍频信号延时处理的延时器（71），将经延时处理和未经延时处理的信号进行差分滤波放大的差分放大器（72），将经过差分放大后的信号进行分析的分析仪（73）。

6.根据权利要求1-5任一项所述的一种高精密度快速痕量分析装置，其特征在于所述的半透半反镜（2）包括有第一半透半反镜（21）、第二半透半反镜（22）和第三半透半反镜（23），所述的全反镜（3）包括有第一全反镜（31）和第二全反镜（32），所述的第一半透半返镜（21）置于光纤光梳装置（1）和样品池（4）之间，所述的第二半透半反镜（22）置于样品池（4）和第一高速光电探测器（61）之间，所述的第三半透半反镜（23）置于第二半透半反镜（22）的正下方，所述的第一全反镜（31）置于第一半透半反镜（21）的正下方，所述的第二全反镜（32）置于第三半透半反镜（23）的正下方，所述的第一反全镜（31）和第三半透半反镜（23）置于同一光路上，所述的第二半透半反镜（22）、第三半透半反镜（23）、第二全反镜（32）置于同一光路上。