[发明专利]一种补偿镜头畸变造成的套刻误差的方法有效
申请号: | 201210458271.2 | 申请日: | 2012-11-15 |
公开(公告)号: | CN102955379B | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 袁伟 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人: | 吴世华,林彦之 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 补偿 镜头 畸变 造成 误差 方法 | ||
1.一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S01:制作基准光刻版版图;
步骤S02:使用基准光刻机和所述的基准光刻版制作基准硅片;
步骤S03:利用所述的基准光刻版和所述的基准硅片在需要补偿镜头畸变的光刻机上进行光刻;
步骤S04:测量所述的需要补偿镜头畸变的光刻机与所述的基准光刻机之间的镜头畸变造成的套刻误差;
步骤S05:将所述的镜头畸变造成的套刻误差拟合为高阶多项式,绘出镜头畸变拟合曲线;
步骤S06:利用所述的镜头畸变拟合曲线对产品光刻版版图的图形位置进行重新计算、矫正和布图,从而对镜头畸变引起的硅片上的套刻误差进行补偿。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基准光刻版的包含多个预设的测量标记,所述测量标记沿X方向和Y方向呈阵列排布。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述的镜头畸变造成的套刻误差是通过测量所述需要补偿镜头畸变的光刻机与所述基准光刻机在曝光场内各所述测量标记处的套刻差异,再去除需要补偿镜头畸变的光刻机和基准光刻机的X、Y方向的步进误差后得到的。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述镜头畸变拟合曲线为高阶多项式,其表述的是曝光场中任意一个位置的X方向坐标与该位置所对应的套刻误差的关系。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述的镜头畸变拟合曲线中的X方向坐标对应的Y值为该X方向坐标对应的镜头畸变造成套刻误差。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述产品光刻版版图的图形位置进行重新计算、矫正和布图,其方法为:首先,对所述产品光刻版版图进行分割得到分割单元,所述分割单元为多条宽度相同的竖条状或面积相同的块状;然后将每个所述分割单元对应的套刻误差的数值反补到该分割单元所在图形中的位置上;以此类推,对所述产品光刻版版图的图形位置进行重新矫正和布图。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在对所述产品光刻版版图的图形位置重新计算、矫正和布图之后,通过进行设计规则检查,对分割单元之间不连续的位置或间隙处进行进一步修正,将不连续的分割单元重新连接完整,从而得到补偿后的产品光刻版版图图形。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述产品光刻版版图的图形位置重新进行计算、矫正和布图时是借助计算软件来完成的。
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