[发明专利]一种抗静电透明基层及抗静电光学扩散片有效

专利信息
申请号: 201210458295.8 申请日: 2012-11-15
公开(公告)号: CN102928902A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 林汉贵;肖慈斌;吴琳琳 申请(专利权)人: 福建捷联电子有限公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;B32B3/14
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350301 福建省福州*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 抗静电 透明 基层 光学 扩散
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种扩散片,属于电子及光学领域,更具体的说是涉及一种抗静电透明基层及抗静电光学扩散片。

背景技术

扩散片是背光模组组成之一,扩散板(Diffuser)也有人叫它扩散片, 主要功能为显示器提供一个均匀的面光源。 基材需选择光透过率高的材料如PET/PC/PMMA。一般传统的扩散膜主要是在扩散膜基材中,加入一颗颗的化学颗粒,作为散射粒子,而现有之扩散板其微粒子分散在树指层之间,所以光缐在经过扩散层时会不断的再两个折射率相异的介质中穿过,在此同时光缐就会发生许多折射、反射与散射的现象,如此便造成了光学扩散的效果。扩散片的结构从下至上通常是抗静电涂布层、PET基材以及扩散层。现有的扩散片由于PET基材不具有抗静电能力,导致扩散片的抗静电能力差,易吸附异物。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抗静电透明基层及抗静电光学扩散片,该抗静电光学扩散片具有较强的抗静电能力,不会吸附异物。

本发明的技术方案之一在于:一种抗静电透明基层,其特征在于:所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的抗静电剂,所述抗静电剂为阳离子季铵盐。

本发明的技术方案之二在于:一种抗静电光学扩散片,包括透明基层,所述透明基层的一侧面为出光面,所述透明基层的另一侧面为入光面,其特征在于:所述出光面和入光均设置有扩散粒子,所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的抗静电剂。

进一步,所述出光面设置有大小不同的两种扩散粒子,其中大扩散粒子为直径为45~50um的高纯度亚克力球;小扩散粒子为直径为25~30um的高纯度亚克力球。

进一步,所述大扩散粒子与小扩散粒子的数量比为0.98:2.02到1.02:1.98之间.

进一步,所述入光面上的扩散粒子是直径为25~30um的高纯度亚克力球。

进一步,所述抗静电剂为阳离子季铵盐。

本发明的优点在于:该抗静电光学扩散片具有较强的抗静电能力,不会吸附异物。

附图说明

图1为实施例中抗静电光学扩散片的结构示意图。

标号说明:1-透明基层   2-大扩散粒子  3-小扩散粒子   4-扩散粒子。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图详予说明。

实施例1

一种抗静电透明基层,其特征在于:所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的抗静电剂,所述抗静电剂为阳离子季铵盐。作为优选方案,所述阳离子季铵盐占PET总重量比例为1.48%、1.50%、1.52%或1.53%。

实施例2

如图1所示,一种抗静电光学扩散片,包括透明基层1,所述透明基层1的上侧面为出光面,所述透明基层的下侧面为入光面,其特征在于:所述出光面和入光均设置有扩散粒子,所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的阳离子季铵盐。作为优选方案,所述阳离子季铵盐占PET总重量比例为1.48%、1.50%、1.52%或1.53%。

上述出光面设置有大小不同的两种扩散粒子。其中大扩散粒子2为直径为45~50um的高纯度亚克力球,作为优选方案,所述大扩散粒子2的直径为46um、47.5um、48um、48.5um、49um或49.5um;小扩散粒子3为直径为25~30um的高纯度亚克力球,作为优选方案,所述小扩散粒子2的直径为26um、27.5um、28um、28.5um、29um或29.5um。

上述大扩散粒子与小扩散粒子的数量比为0.98:2.02到1.02:1.98之间。作为优选方案,所述大扩散粒子与小扩散粒子的数量比为1:2、0.99:2或1:1.99。

上述入光面上的扩散粒子4是直径为25~30um的高纯度亚克力球,作为优选方案,所述扩散粒子2的直径为26um、27.5um、28um、28.5um、29um或29.5um。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

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