[发明专利]一种抗静电透明基层及抗静电光学扩散片有效
申请号: | 201210458295.8 | 申请日: | 2012-11-15 |
公开(公告)号: | CN102928902A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 林汉贵;肖慈斌;吴琳琳 | 申请(专利权)人: | 福建捷联电子有限公司 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;B32B3/14 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350301 福建省福州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抗静电 透明 基层 光学 扩散 | ||
技术领域
本发明涉及一种扩散片,属于电子及光学领域,更具体的说是涉及一种抗静电透明基层及抗静电光学扩散片。
背景技术
扩散片是背光模组组成之一,扩散板(Diffuser)也有人叫它扩散片, 主要功能为显示器提供一个均匀的面光源。 基材需选择光透过率高的材料如PET/PC/PMMA。一般传统的扩散膜主要是在扩散膜基材中,加入一颗颗的化学颗粒,作为散射粒子,而现有之扩散板其微粒子分散在树指层之间,所以光缐在经过扩散层时会不断的再两个折射率相异的介质中穿过,在此同时光缐就会发生许多折射、反射与散射的现象,如此便造成了光学扩散的效果。扩散片的结构从下至上通常是抗静电涂布层、PET基材以及扩散层。现有的扩散片由于PET基材不具有抗静电能力,导致扩散片的抗静电能力差,易吸附异物。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抗静电透明基层及抗静电光学扩散片,该抗静电光学扩散片具有较强的抗静电能力,不会吸附异物。
本发明的技术方案之一在于:一种抗静电透明基层,其特征在于:所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的抗静电剂,所述抗静电剂为阳离子季铵盐。
本发明的技术方案之二在于:一种抗静电光学扩散片,包括透明基层,所述透明基层的一侧面为出光面,所述透明基层的另一侧面为入光面,其特征在于:所述出光面和入光均设置有扩散粒子,所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的抗静电剂。
进一步,所述出光面设置有大小不同的两种扩散粒子,其中大扩散粒子为直径为45~50um的高纯度亚克力球;小扩散粒子为直径为25~30um的高纯度亚克力球。
进一步,所述大扩散粒子与小扩散粒子的数量比为0.98:2.02到1.02:1.98之间.
进一步,所述入光面上的扩散粒子是直径为25~30um的高纯度亚克力球。
进一步,所述抗静电剂为阳离子季铵盐。
本发明的优点在于:该抗静电光学扩散片具有较强的抗静电能力,不会吸附异物。
附图说明
图1为实施例中抗静电光学扩散片的结构示意图。
标号说明:1-透明基层 2-大扩散粒子 3-小扩散粒子 4-扩散粒子。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图详予说明。
实施例1
一种抗静电透明基层,其特征在于:所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的抗静电剂,所述抗静电剂为阳离子季铵盐。作为优选方案,所述阳离子季铵盐占PET总重量比例为1.48%、1.50%、1.52%或1.53%。
实施例2
如图1所示,一种抗静电光学扩散片,包括透明基层1,所述透明基层1的上侧面为出光面,所述透明基层的下侧面为入光面,其特征在于:所述出光面和入光均设置有扩散粒子,所述透明基层采用高纯度的PET制成,所述高纯度的PET中加入占PET总重量比例为1.45%~1.55%的阳离子季铵盐。作为优选方案,所述阳离子季铵盐占PET总重量比例为1.48%、1.50%、1.52%或1.53%。
上述出光面设置有大小不同的两种扩散粒子。其中大扩散粒子2为直径为45~50um的高纯度亚克力球,作为优选方案,所述大扩散粒子2的直径为46um、47.5um、48um、48.5um、49um或49.5um;小扩散粒子3为直径为25~30um的高纯度亚克力球,作为优选方案,所述小扩散粒子2的直径为26um、27.5um、28um、28.5um、29um或29.5um。
上述大扩散粒子与小扩散粒子的数量比为0.98:2.02到1.02:1.98之间。作为优选方案,所述大扩散粒子与小扩散粒子的数量比为1:2、0.99:2或1:1.99。
上述入光面上的扩散粒子4是直径为25~30um的高纯度亚克力球,作为优选方案,所述扩散粒子2的直径为26um、27.5um、28um、28.5um、29um或29.5um。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
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