[发明专利]一种共聚物阻垢分散剂及其制备方法有效
申请号: | 201210459249.X | 申请日: | 2012-11-15 |
公开(公告)号: | CN103803729A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 王亭;郦和生;李春丽 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司北京化工研究院 |
主分类号: | C02F5/14 | 分类号: | C02F5/14;C08F230/02;C08F220/04;C08F220/06;C08F222/02;C08F228/02;C08F212/14;C08F220/58 |
代理公司: | 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙) 11392 | 代理人: | 郝亮 |
地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 共聚物 分散剂 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及循环水处理领域,具体涉及一种共聚物阻垢分散剂及其制备方法。
背景技术
随着工业生产的规模化和人口的急剧增加,水资源严重匮乏。循环冷却水用量占工业用水的60~70%,合理节约循环冷却水是缩减工业用水量的最直接途径。节约循环冷却水的主要方法是提高循环冷却水的循环利用率,即加大浓缩倍数,但这又会给循环水系统带来严重的腐蚀和结垢问题,对水处理工艺提出了更高的要求。为了保证循环水系统在高硬度、高氯离子浓度、高有机物浓度等条件下正常运行,水处理药剂显得极为关键。
阻垢分散剂是常见的循环水处理用水质稳定剂,尤其是聚羧酸盐类阻垢分散剂,其可使水中致垢盐类不在金属表面上沉积,同时又能阻止水中颗粒物(垢)聚集沉降,并维持其悬浮状态,起到阻垢、分散的双重功效。
国内有关聚羧酸盐类阻垢分散剂的专利很多,如CN01123146“低分子量(甲基)丙烯酸(盐)系聚合物及其制备方法和用途”,CN94194415.8 “不饱和羧酸共聚物及其制备方法和应用”等,但随着工业循环冷却水处理工艺的不断开发,循环水系统情况的复杂性和多变性逐渐加深,对水处理药剂的适应性提出了更高的要求。尤其是物料泄漏的频繁发生,使油类物质进入到循环水中,循环水的COD、浊度、油含量、悬浮物等指标较高,常用的缓蚀阻垢剂难以发挥正常的效用,只能加大缓蚀阻垢剂的用量,或者频繁地排污置换,极大地增加了循环水处理的开销,也加重了循环水处理的繁复性。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供一种共聚物阻垢分散剂,它在含油量较高的水体中,具有较好的阻碳酸钙垢性能,阻磷酸钙垢性能、稳定锌盐性能,分散性能,表面活性以及剥离性能,尤其是在存在油类物质泄漏的循环水系统,当循环水的COD、浊度、油含量、悬浮物等指标较高,常用的缓蚀阻垢剂难以发挥正常的效用时,本发明提供的共聚物阻垢分散剂可在其优良表面活性的保障下,更好地发挥阻垢和分散的作用,阻垢分散效果超过现有常用阻垢分散剂。
一种共聚物阻垢分散剂的制备方法,包括以下步骤:
1)试剂配制:
将不饱和膦酸和无机还原剂溶于有机溶液,形成试剂Ⅰ;将无机氧化剂溶于有机溶液,形成试剂Ⅱ;将不饱和脂肪酸溶于有机溶剂,或者将不饱和脂肪酸与下列成份中的至少一种混合溶于有机溶剂:不饱和羧酸、不饱和磺酸,形成试剂Ⅲ;
2)聚合反应
向温度为45~65℃的试剂Ⅰ中加入试剂Ⅱ和试剂Ⅲ
加热至溶剂沸腾,所述试剂Ⅰ、试剂Ⅱ和试剂Ⅲ在溶剂的沸点温度发生聚合反应,反应时间为1~5h;
3)将产物冷却,得所述共聚物阻垢分散剂。
当所述试剂Ⅲ为不饱和脂肪酸溶于有机溶剂时,所述聚合反应中,反应物的加入量为:
不饱和膦酸85~95wt%,不饱和脂肪酸5~15wt%,
无机还原剂加入量为不饱和膦酸和不饱和脂肪酸总质量的8~14%,
无机氧化剂加入量为不饱和膦酸和不饱和脂肪酸总质量的8~14%;
当所述试剂Ⅲ为不饱和脂肪酸与不饱和羧酸溶于有机溶剂时,所述聚合反应中,反应物的加入量为:
不饱和膦酸60~80wt%,不饱和脂肪酸5~15wt%,不饱和羧酸15~25wt%;
无机还原剂加入量为不饱和膦酸、不饱和脂肪酸和不饱和羧酸总质量的8~14%;
无机氧化剂加入量为不饱和膦酸、不饱和脂肪酸和不饱和羧酸总质量的8~14%;
当所述试剂Ⅲ为不饱和脂肪酸与不饱和磺酸溶于有机溶剂时,所述聚合反应中,反应物的加入量为:
不饱和膦酸60~80wt%,不饱和脂肪酸5~15wt%,不饱和磺酸15~25wt%;
无机还原剂加入量为不饱和膦酸、不饱和脂肪酸和不饱和磺酸总质量的8~14%;
无机氧化剂加入量为不饱和膦酸、不饱和脂肪酸和不饱和磺酸总质量的8~14%;
当所述试剂Ⅲ为不饱和脂肪酸、不饱和磺酸和不饱和羧酸溶于有机溶剂时,所述聚合反应中,反应物的加入量为:
不饱和膦酸35~65wt%,不饱和脂肪酸5~15wt%,不饱和磺酸15~25wt%,不饱和羧酸15~25wt%;
无机还原剂加入量为不饱和膦酸、不饱和脂肪酸、不饱和磺酸和不饱和羧酸总质量的8~14%;
无机氧化剂加入量为不饱和膦酸、不饱和脂肪酸、不饱和磺酸不饱和羧酸总质量的8~14%。
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