[发明专利]掩模版组件、光刻设备、在光刻过程中的应用及投影两个或更多个像场的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种掩模版组件、光刻设备、第一掩模版和第二掩模版在光刻过程中的应用以及在光刻过程的单次扫描移动中投影两个或更多个像场的方法。 

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或几个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可以通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式将图案从图案形成装置转移到衬底上。 

为了尽可能有效地使用光刻设备，期望实现光刻设备的高产量，使得可以通过光刻设备在短的时间内处理大量的衬底。 

在扫描型光刻设备的扫描方式中，使衬底台以衬底台扫描移动(即具有基本上恒定速度的移动)移动跨过投影系统。在衬底台的扫描移动的同时，支撑图案形成装置支撑件也以扫描移动(即具有基本上恒定速度的移动)跨过投影系统进行扫描，以将图案赋予光刻设备的辐射束。 因为在投影期间图案形成装置支撑件被从开始位置移动至结束位置，所以图案形成装置支撑件必须在图案形成装置支撑件准备沿同一方向的新的扫描移动之前移动返回至开始位置。 

因此，光刻设备可以配置成在衬底上完成具有蜿蜒模式的衬底台扫描移动。然后，图案形成装置支撑件的随后/相继的扫描移动可以沿相反方向，这是因为随后的衬底扫描移动的方向也沿相反方向。对于每一衬底台扫描移动，衬底台必须减速和加速以获得期望的速度和方向。这种减速和随后的加速至基本上恒定的速度需要花费相当多的时间。 

在减速和加速的时间期间，光刻设备不能用于在衬底上的像场的曝光，这对于光刻设备的产量产生负面的影响。因为对提高光刻设备的产量存在不断增加的需要，所以期望可以更有效地执行衬底的目标部分的曝光。 

一种可能的方案是使用较大的掩模版，其可以包括用于曝光衬底上的多个目标部分的许多像场。然而，在实践中，在保持相同规格的掩模版情况下，实质上增大掩模版的尺寸的可能性是有限的。 

发明内容

期望改进或提高光刻设备中扫描移动的效率。 

根据本发明的一个实施例，提供一种用于光刻过程中的掩模版组件，在光刻过程中第一像场和第二像场被投影到衬底上的第一目标部分和第二目标部分上，该掩模版组件布置成保持具有第一像场的第一掩模版和具有第二像场的第二掩模版，使得第一和第二像场之间的距离对应第一目标部分和第二目标部分之间的距离。 

根据本发明的一个实施例，提供一种包括掩模版组件的光刻设备。 

根据本发明的一个实施例，提供一种具有第一像场的第一掩模版和具有第二像场的第二掩模版在光刻过程中的应用，在光刻过程中，第一像场和第二像场被投影到衬底上的第一目标部分和第二部分上，其中第一和第二像场之间的距离对应第一目标部分和第二目标部分之间的距离。 

根据本发明一个实施例，提供一种用于在光刻过程的单次扫描移动 中将两个或更多个像场投影到衬底上的第一目标部分和第二目标部分上的方法，所述方法包括步骤：提供具有第一像场的第一掩模版和具有第二像场的第二掩模版，将第一像场和第二像场之间的距离设置成对应第一目标部分和第二目标部分之间的距离。 

附图说明

现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中： 

图1示出根据本发明一个实施例的光刻设备； 

图2示出现有技术的光刻设备中衬底台的扫描模式； 

图3示出根据本发明一个实施例的掩模版支撑件和掩模版组件的侧视图； 

图4示出图3的掩模版组件和掩模版支撑件的俯视图； 

图5示出根据本发明一个实施例的具有掩模版组件的光刻设备中的衬底台的可行的扫描模式； 

图6示出根据本发明一个实施例的掩模版支撑件和掩模版组件的侧视图；