[发明专利]一种阵列基板、掩膜板及其制造方法和显示装置

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：

网格图案以及设置在所述网格图案上的透过窗图案，所述网格图案的网格间掩膜框架的宽度与所述透过窗图案的厚度，允许阴极材料蒸汽在透过窗图案以外的区域实现沉积。

2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述网格图案位于网格图案掩膜板上；

所述透过窗图案位于透过窗图案掩膜板上；

所述透过窗图案掩膜板固定在所述网格图案掩膜板上。

3.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述网格图案的网格间掩膜框架的宽度小于0.1mm。

4.如权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述网格图案的网格间掩膜框架的宽度为0.05mm。

5.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述透过窗图案的厚度为0.1mm或大于0.1mm。

6.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述网格图案掩膜板为镍铁合金材质。

7.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述透过窗图案掩膜板为镍材质。

8.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述网格图案掩膜板上固定所述透过窗图案掩膜板的位置设置有基础透过窗图案。

9.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述固定在所述网格图案掩膜板上的透过窗图案掩膜板，具体为：

在所述网格图案掩膜板的基础透过窗图案上电铸形成的透过窗图案掩膜板。

10.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，还包括：

掩膜框架，所述网格图案掩膜板通过拉伸焊接的方式固定在所述掩膜框架上。

11.一种掩膜板的制造方法，其特征在于，包括：

加工形成网格图案掩膜板；

形成透过窗图案掩膜板，并将所述透过窗图案掩膜板固定在所述网格图案掩膜板上。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述网格图案掩膜板上固定所述透过窗图案掩膜板的位置设置有基础透过窗图案。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述形成透过窗图案掩膜板，并将所述透过窗图案掩膜板固定在所述网格图案掩膜板上，具体为：

在所述网格图案掩膜板的基础透过窗图案上电铸形成透过窗图案掩膜板。

14.如权利要求11所述的方法，其特征在于，还包括：

将所述网格图案掩膜板固定在掩膜框架上。

15.如权利要求14所述的方法，其特征在于，所述将网格图案掩膜板固定在掩膜框架上，具体为：

将所述网格图案掩膜板通过拉伸焊接的方式固定在掩膜框架上。

16.一种使用如权利要求1所述的掩膜板制造阵列基板的方法，其特征在于，包括：

在玻璃基板上放置所述掩膜板，所述掩膜板的透过窗图案掩膜板紧贴所述玻璃基板；

喷洒阴极材料蒸汽，在所述玻璃基板上贴紧透过窗图案掩膜板以外的区域沉积阴极材料。

17.一种阵列基板，其特征在于，使用如权利要求16所述的方法制造。

18.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求17所述的阵列基板。