[发明专利]一种氧化锡锑透明电热膜的制备方法

权利要求书

1.一种氧化锡锑透明电热膜的制备方法，其特征在于：包括锡、锑溶液的准备，在高温下将上述含有锡、锑的溶液超声波雾化沉积到玻璃管或陶瓷管的外表面上形成氧化锡锑透明电热膜。

2.如权利要求1所述的一种氧化锡锑透明电热膜的制备方法，其特征在于：所述的锡、锑溶液的准备为将锡化合物、锑化合物、添加剂等溶解于溶剂中，形成溶液，调节溶液的pH值至中性或偏碱性；溶液中锡的浓度为0.1-3mol/L，锑的浓度为0.01-0.5 mol/L，添加剂的质量与按照锡、锑完全转化为相应的二氧化锡和三氧化二锑理论质量的0.1-1.5倍。

3.如权利要求2所述的锡、锑溶液的准备，其特征在于：所述的锡的化合物为草酸锡、醋酸锡、甲基锡、乙醇锡、硝酸锡、苹果酸锡、山梨醇锡、三苄基锡等其中的一种。

4.如权利要求2所述的锡、锑溶液的准备，其特征在于所述的锑的化合物为酒石酸锑、苹果酸锑、醋酸锑、草酸锑、柠檬酸锑、乙醇锑、硝酸锑、苯甲酸锑、山梨酸锑等其中的一种。

5.如权利要求2所述的锡、锑溶液的准备，其特征在于所述的添加剂为草酸、醋酸、酒石酸、柠檬酸、谷氨酸、苯甲酸、乙二胺四乙酸等其中的一种。

6.如权利要求2所述的锡、锑溶液的准备，其特征在于所述的溶剂为水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丙酮等其中的一种。

7.如权利要求1所述的一种氧化锡锑透明电热膜的制备方法，其特征在于所述的超声波雾化器的雾化量为0.1-30升/分钟。

8.如权利要求1所述的一种氧化锡锑透明电热膜的制备方法，其特征在于所述的薄膜沉积过程是在400-950℃进行的。

9.如权利要求1所述的一种氧化锡锑透明电热膜的制备方法，其特征在于所述的薄膜沉积过程在1-20分钟/批。