[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括：显示区和外围布线区，所述外围布线区形成有栅引线和数据引线，所述栅引线连接所述显示区的栅线，所述数据引线连接所述显示区的数据线，其特征在于，

所述栅引线包括第一栅引线和第二栅引线，所述第一栅引线与所述栅线同层设置，所述第二栅引线与所述数据线同层设置，所述第一栅引线和所述第二栅引线通过第一过孔连接。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

第n条栅引线中，所述第一栅引线在所述第二栅引线和所述栅线之间，所述第一栅引线直接与所述栅线连接；

与所述第n条栅引线相邻的第n+1条栅引线中，所述第二栅引线在所述第一栅引线和所述栅线之间，所述第二栅引线通过第三过孔与所述栅线连接。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，

所述数据引线包括第一数据引线和第二数据引线，所述第一数据引线与所述第一栅引线同层设置，所述第二数据引线与所述第二栅引线同层设置，所述第一数据引线和所述第二数据引线通过第二过孔连接。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，

第n条数据引线中，所述第一数据引线在所述第二数据引线和所述数据线之间，所述第一数据引线通过第四过孔与所述数据线连接；

与所述第n条数据引线相邻的第n+1条数据引线中，所述第二数据引线在所述第一数据引线和所述数据线之间，所述第二数据引线直接与所述数据线连接。

5.根据权利要求3或4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一栅引线和所述第二栅引线的长度相等，所述第一数据引线和所述第二数据引线的长度相等。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，

所述第一栅引线和所述第一数据引线的材料为AlNd或Mo，所述第二栅引线和所述第二数据引线的材料为Mo。

7.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上制作第一金属薄膜，通过构图工艺至少形成第一栅引线和栅线；

在上述基板上制作绝缘薄膜，通过构图工艺形成至少包含有第一过孔的绝缘层；

在形成有所述绝缘层的基板上制作第二金属薄膜，通过构图工艺至少形成第二栅引线和数据线；其中，所述第一栅引线和所述第二栅引线通过第一过孔连接。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述在上述基板上制作绝缘薄膜，通过构图工艺形成至少包含有第一过孔的绝缘层包括：

在上述基板上制作绝缘薄膜，通过构图工艺形成至少包含有第一过孔和第三过孔的绝缘层；

其中，第n条所述栅引线中，所述第一栅引线在所述第二栅引线和所述栅线之间，所述第一栅引线直接与所述栅线连接；与所述第n条栅引线相邻的第n+1条所述栅引线中，所述第二栅引线在所述第一栅引线和所述栅线之间，所述第二栅引线通过第三过孔与所述栅线连接。

9.根据权利要求7或8所述的制作方法，其特征在于，所述在基板上制作第一金属薄膜，通过构图工艺至少形成第一栅引线和栅线，包括：

在基板上制作第一金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一栅引线、第一数据引线以及栅线的图案；

所述在上述基板上制作绝缘薄膜，通过构图工艺形成至少包含有第一过孔的绝缘层，包括：

在上述基板上制作绝缘薄膜，通过构图工艺形成包括第一过孔、第二过孔、第三过孔和第四过孔的绝缘层；

所述在形成有所述绝缘层的基板上制作第二金属薄膜，通过构图工艺至少形成第二栅引线和数据线，包括：

在形成有所述绝缘层的基板上制作第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第二栅引线、第二数据引线以及数据线的图案；

其中，第n条数据引线中，所述第一数据引线在所述第二数据引线和所述数据线之间，所述第一数据引线通过第四过孔与所述数据线连接；与所述第n条数据引线相邻的第n+1条数据引线中，所述第二数据引线在所述第一数据引线和所述数据线之间，所述第二数据引线直接与所述数据线连接。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1～6任一项所述的阵列基板。