[发明专利]一种均匀可调多孔膜及其制备方法

权利要求书

1.一种均匀可调多孔膜，其特征在于，多孔膜的材料为高分子聚合物的一种或几种组合；所述多孔膜的厚度为1μm-100μm，多孔膜的孔径为10nm-125μm。

2.一种如权利要求1所述均匀可调多孔膜的制备方法，其特征在于，包括以下过程：

  (1)制备具有六角周期结构的光纤阵列模板；

  (2)采用致密的聚合物薄膜，测量其熔融温度；

  (3)制备聚二甲基硅氧烷层：硅胶弹性固化物和硅橡胶按1:10的比例在烧杯中混合搅拌均匀，在空气中放置一定时间至气泡消除，放入115℃烘箱1h取出，用刮刀将聚二甲基硅氧烷层刮出；

(4)将聚合物薄膜放置在聚二甲基硅氧烷层上，再与步骤（1）中的光纤阵列模板一起在聚合物薄膜的熔融温度下热处理，然后进行热压，冷却后即可得到形状、孔径均匀可调多孔结构的膜。

3.根据权利要求2所述均匀可调多孔膜的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述的聚合物薄膜材料为聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯或聚酰亚胺，或以上几种材料组合的复合膜。

4.根据权利2或3所述均匀可调多孔膜的制备方法，其特征在于，步骤(4)中的热处理温度为30-500℃。

5.根据权利要求4所述均匀可调多孔膜的制备方法，其特征在于，步骤(4)中的热压重量为500g-3000g。