[发明专利]浸入式流体分析设备及其调试方法无效

专利信息
申请号: 201210473629.9 申请日: 2012-11-21
公开(公告)号: CN102944523A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 于志伟 申请(专利权)人: 于志伟
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/31;G01N21/01
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310052 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 浸入 流体 分析 设备 及其 调试 方法
【权利要求书】:

1.一种浸入式流体分析设备,所述分析设备包括:

光源,所述光源用于发出测量光;

测量池,所述测量池处于所述光源和光学模块之间,用于在浸入时容纳待测流体;

光学模块,所述光学模块包括:

第一腔体,所述第一腔体的内部中空,设置在所述测量池的一侧,并与所述测量池保持密封;

会聚部件,所述会聚部件设置在所述第一腔体的内部,用于将所述光源发出的且穿过所述测量池的测量光会聚在狭缝处;

狭缝,所述狭缝设置在所述第一腔体的内部,且处于所述会聚部件的一侧;

分光部件,所述分光部件通过安装部件设置在所述第一腔体内;

光电检测部件,所述光电检测部件设置在所述第一腔体内,用于将穿过所述狭缝且经所述分光部件分光后的测量光信号转换为电信号,并传送到所述电子模块;

端盖,所述端盖安装在所述第一腔体的远离所述测量池的一端,并与第一腔体保持密封;

电子模块,所述电子模块用于根据光谱分析技术处理接收到的所述电信号,从而获知所述待测流体的参数。

2.根据权利要求1所述的流体分析设备,其特征在于:所述分析设备进一步包括:

调节机构,所述调节机构设置在所述第一腔体内,用于调节所述会聚部件及狭缝,或分光部件,或光电检测部件的位置。

3.根据权利要求1所述的流体分析设备,其特征在于:所述电子模块设置在所述第一腔体的内部。

4.根据权利要求1所述的流体分析设备,其特征在于:所述会聚部件和狭缝固定在一起。

5.根据权利要求1所述的流体分析设备,其特征在于:所述分析设备进一步包括:

第二腔体,所述第二腔体内部中空,设置在所述测量池的一侧,并与所述测量池保持密封;

光源模块,所述光源模块设置在所述第二腔体内,信号输出端与所述光源连接;

第一堵头,所述第一堵头设置在所述第二腔体的远离所述测量池的一端,用于固定所述光源模块。

6.根据权利要求1所述的流体分析设备,其特征在于:所述分析设备进一步包括:

第三腔体,所述第三腔体内部中空,设置在所述光源的一侧,并与所述第二腔体保持密封;

电路保护模块,所述电路保护模块设置在所述第三腔体内,用于保护所述光源模块;

第二堵头,所述第二堵头用于通过线缆,设置在所述第三腔体的远离所述测量池的一端,并与所述第三腔体保持密封。

7.根据权利要求6所述的流体分析设备,其特征在于:所述第二堵头或第三腔体上设有检漏孔。

8.根据权利要求1所述的流体分析设备,其特征在于:所述测量池呈“凹”状。

9.根据权利要求1所述的流体分析设备,其特征在于:所述流体是气体或液体。

10.根据权利要求1所述的流体分析设备的调试方法,所述调试方法为:

通过调节所述狭缝的位置去调节光谱分辨率,通过调节所述分光部件的位置去调节光谱范围、通过调节所述光电检测部件的位置去调节光强。

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