[发明专利]阵列基板及其制造方法和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括多个像素单元，所述像素单元包括薄膜晶体管、像素电极、公共电极和钝化层，所述薄膜晶体管包括栅极、栅绝缘层、有源层和源漏极，其特征在于，还包括：

与所述公共电极位于不同层的金属线；

所述金属线所在层与所述公共电极所在层之间设置有绝缘层；

所述绝缘层在所述金属线的区域设置有多个过孔，所述金属线通过所述过孔与所述公共电极连接；

在所述过孔下方，并且在所述金属线或所述公共电极的下方对应过孔区域设置有保护层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述过孔设置于所述栅线与所述金属线重叠的区域。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属线设置于相邻的两列像素单元之间。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述保护层的面积大于与过孔区域对应的金属线的面积和所述过孔的截面面积。

5.根据权利要求1至4任一所述的阵列基板，其特征在于，

每行像素单元分为多个像素单元组，每个像素单元组由相邻的两个像素单元组成；

每行像素单元上方设置有第一栅线，每行像素单元下方设置有第二栅线，所述第一栅线和第二栅线用于分别驱动所述每个像素单元组中的两个像素单元，每个像素单元组中的两个像素单元连接于同一条数据线；

相邻的像素单元组之间设置有虚拟数据线，所述金属线为所述虚拟数据线。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，

所述钝化层位于所述金属线和数据线层上方；

所述公共电极位于所述钝化层上方，且所述公共电极为狭缝状；

所述过孔设置于相邻两行像素单元之间相邻的第一栅线和第二栅线与所述虚拟数据线重叠的区域；

所述保护层设置于所述金属线与所述栅绝缘层之间。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述保护层与所述有源层同层制作。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述保护层与有源层采用相同材料制作。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～8任一所述的阵列基板。

10.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，该方法包括：

在基板上形成包括栅线的图案；

在形成上述图案的基板上形成栅绝缘层；

在形成上述图案的基板上形成有源层和保护层；

在形成上述图案的基板上形成包括数据线、金属线和像素电极的图案；

在形成上述图案的基板上形成第二绝缘层，并通过构图工艺，在所述钝化层上形成多个过孔；

在形成上述图案的基板上形成包括公共电极的图案，所述公共电极通过所述过孔与所述金属线连接，所述保护层位于所述金属线下方。