[发明专利]含硅的苯并蒽类有机发光材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201210476615.2 | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN103834381A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 马晓宇;王辉;李文军 | 申请(专利权)人: | 吉林奥来德光电材料股份有限公司 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06;C07F7/10;C07F7/08;H01L51/54 |
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地址: | 130012 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
1.含硅的苯并蒽类的有机发光材料,其特征在于,该有机发光材料的结构通式如式(1)所示:
式(1);
其中,R1基团为 C6-C14芳基或稠环芳基,R2基团为C8-C18芳族杂环基、C9-C15稠环芳基或三芳胺基。
2.如权利要求1所述的含硅的苯并蒽类的有机发光材料,其特征在于R1为无取代基、苯基、萘基或蒽基;R2基团为N-苯基-3-咔唑基、3-啡罗啉基、三芳胺基、2-蒽基、2-菲基、9,9-二甲基-2-芴基、2-萘基或苯基等。
3.根据权利要求1所述的含硅的苯并蒽类有机发光材料,其特征在于,R1无取代基,R2为N-苯基-3-咔唑基。
4.根据权利要求1所述的含硅的苯并蒽类有机发光材料,其特征在于,R1为萘基,R2为3-啡罗啉基。
5.根据权利要求1所述的含硅的苯并蒽类有机发光材料,其特征在于,
R1为萘基,R2为三芳胺基。
6.根据权利要求1所述的含硅的苯并蒽类有机发光材料,其特征在于,
R1为蒽基,R2为2-蒽基。
7.根据权利要求1所述的含硅的苯并蒽类有机发光材料,其特征在于,
R1为蒽基,R2为2-萘基;
8.根据权利要求1所述的含硅的苯并蒽类有机发光材料,其特征在于,
R1为苯基,R2为9,9-二甲基-2-芴基。
9.根据权利要求1或2所述的苯并蒽类有机发光材料的制备方法,其特征在于,该制备方法的具体步骤和条件如下:
(1)按摩尔比为1:1.5~2.5称取含硅的苯并蒽类溴代物和含R1和R2取代基的硼酸;
(2)加入碳酸钠和溶剂;碳酸钠与含硅苯并蒽类溴代物的摩尔比为3~4:1;溶剂为甲苯和水;甲苯与水的体积比为2:1。
(3)对反应体系脱气;
(4)加入催化剂四(三苯基磷)钯,四(三苯基磷)钯与含硅苯并蒽类溴代物的摩尔比为1:50~100,
(5)将反应体系的温度升至回流,反应24~30小时;
(6)冷却,抽滤,洗涤,干燥后,得到所述的含硅的苯并蒽类有机发光材料。
10.根据权利要求1所述的苯并蒽类有机发光材料的应用,其特征在于,该材料可作为发光材料、发光主体材料或传输材料,应用在电致发光器件上。
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