[发明专利]一种配向膜列印机喷头的清洁方法及装置有效

专利信息
申请号: 201210477207.9 申请日: 2012-11-22
公开(公告)号: CN102921663A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 宋玉 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/08;B08B5/04
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 潘中毅;熊贤卿
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 列印机 喷头 清洁 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及配向膜列印机领域,尤其涉及一种用于防止配向膜列印机喷头因液滴干涸而堵塞喷孔的清洁方法及装置。 

背景技术

目前,配向膜列印机已广泛应用于TFT-LCD的取向膜(Polyimide)的涂布工程中。其作用原理是:配向膜列印机的喷头以高速且高密度的液滴进行连续喷洒,使液滴落在TFT阵列基板或CF彩膜基板表面上,经过表面张力的扩散作用使膜面整平达到成膜效果。具体地,在配向膜列印机的喷头上分布着密集而又微小的喷孔,通过电压控制压电陶瓷的形变,将PI(聚酰亚胺)液滴从喷头上的喷孔中挤出,完成印刷动作。该配向膜列印机存在的问题是: 

1、由于喷头上的喷孔很微小,当配向膜列印机的机台处于未工作的状态时,会因为PI液的干涸导致喷孔堵塞。而当配向膜列印机机台再次工作时,堵塞的喷孔就会无法继续喷洒PI液滴,造成印刷品质缺陷。此外,有缺陷的基板会被剥离PI膜并重新制膜,造成制作时间的延长及PI液的浪费。

    2、同时,再次工作时需要对堵塞的喷孔进行改善作业,浪费生产时间和PI液,降低配向膜列印机机台的稼动率。 

故,有必要提供一种配向膜列印机喷头的清洁方法及装置,以解决现有技术所存在的问题。 

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于,提供一种配向膜列印机喷头的清洁方法及装置,能够有效防止配向膜列印机喷头因滴液干涸导致的堵塞现象;在提升配向膜印刷品质,产品良率的同时,可进一步提升配向膜列印机的嫁动率,并降低生产成本。 

为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种配向膜列印机喷头的清洁方法,用于自动清理配向膜列印机的喷头,包括以下步骤: 

按照一定的移动路径定时向所述配向膜列印机的喷头喷洒溶解液,用以溶解凝固在喷头喷孔上的液滴,所述溶解液喷洒覆盖在所述配向膜列印机的全部喷头上。

按照所述移动路径进行吸真空操作,用以吸走所述喷头表面覆盖的溶解液。 

优选的,所述按照一定的移动路径定时向所述配向膜列印机的喷头喷洒溶解液的步骤包括: 

每隔一定的时间控制打开用以供给溶解液的第一供给管路,当所述溶解液喷洒覆盖在所述配向膜列印机的全部喷头上后,控制关闭所述第一供给管路。

优选的,所述按照所述移动路径进行吸真空操作的步骤包括: 

在控制关闭所述第一供给管路的一定时间内,控制打开用于在内部形成真空的第二供给管路,所述第二供给管路的末端连接有真空吸嘴并通过其中的负压吸走所述喷头表面的溶解液;

当吸走所述全部喷头表面的溶解液后,控制关闭所述第二供给管路。

优选的,所述液滴为PI液,所述溶解液为N-甲基吡咯烷酮溶剂。 

优选的,所述按照一定的移动路径定时向所述配向膜列印机的喷头喷洒溶解液的步骤与所述按照所述移动路径进行吸真空操作的步骤交替进行。 

为解决上述技术问题,本发明采用的另一种技术方案:一种配向膜列印机喷头的清洁装置,用于自动清理配向膜列印机的喷头,包括: 

清洗喷头,装设在配向膜列印机喷头的下方,用以按照一定的移动路径定时向所述配向膜列印机的喷头喷洒溶解液,所述清洗喷头将所述溶解液喷洒在所述配向膜列印机的全部喷头上。

真空吸嘴,装设在所述配向膜列印机喷头的下方,用以在所述清洗喷头喷洒所述溶解液后,按照所述移动路径将所述喷头表面覆盖的溶解液吸走。 

优选的,还包括:与所述清洗喷头相连接用以供给所述溶解液的第一供给管路; 

与所述真空吸嘴相连接用以在内部形成真空的第二供给管路;其中,

在所述第一供给管路和所述第二供给管路中分别设置电磁阀。

优选的,还包括与所述第一供给管路的电磁阀相连接的PLC控制器;其中, 

所述PLC控制器按照一定的时间间隔控制打开所述第一供给管路的电磁阀,当所述溶解液喷洒在所述配向膜列印机的全部喷头上后,控制关闭所述第一供给管路的电磁阀。

优选的,所述PLC控制器还与所述第二供给管路的电磁阀相连接; 

所述PLC控制器用以在所述PLC控制器控制关闭所述第一供给管路的电磁阀后,控制打开所述第二供给管路的电磁阀,所述真空吸嘴通过所述第二供给管路中的负压吸走所述喷头表面的溶解液。

优选的,所述清洗喷头与所述真空吸嘴贴合在一起,设为多组; 

所述清洗喷头及所述真空吸嘴可按照所述移动路径进行交替运动。

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