[发明专利]球形气动找平机构

说明书

技术领域

本发明涉及一种接触接近式光刻机对准工作台的找平机构，特别是涉及一种接触接近式光刻机对准工作台的球形气动找平机构。

背景技术

找平机构是接触接近式光刻机对准工作台部件中的关键装置，也是瓶颈技术，该装置直接体现接触接近式光刻机的研制、生产、制造、装配等技术水平。由于基片上下表面的不平行，在基片吸附固定后与掩膜版表面接触时二者之间会形成一个楔形角，找平机构就是为了消除这个楔形误差，使基片与掩膜版完全接触，接触面达到平行状态。国外接触接近式光刻机的找平机构都是自行研制的，属于核心技术受到保护。国内接触接近式光刻机目前配置的找平机构，普遍采用半球形找平技术， 找平时由于凸凹两个半球面直接相互接触相对运动频繁、磨损快，磨损后无法维修，只能进行更换；且找平力大，易造成掩膜版变形从而影响基片曝光质量，特别对于薄基片容易造成碎片。因此，从社会效益和经济效益两方面考虑，研制开发易于找平、找平力小的球形气动找平机构是非常必要的。

发明内容

本发明的目的是针对已有接触接近式光刻机找平技术的不足，提供一种接触接近式光刻机能够实现基片与掩膜版找平时易于找平、锁紧时X及Y方向无漂移、找平力小、维护方便的球形气动找平机构。

本发明的目的是能够实现的。本发明的球形气动找平机构是在已有技术的基础上进行改进得以实现的，本发明的球形气动找平机构包括互为呈球形结构且上板2坐落在支座1球形凹面中的支座1与上板2，本发明的球形气动找平机构的特征在于:所述支座1的球形凹面上均布对称设有若干个出气口1’，所述每个出气口1’上均通过螺钉固接一个与支座1球形凹面一致的节流盖3，所述节流盖3与支座1结合部之间设有密封胶圈5，所述节流盖3上设有节流孔，所述节流盖3的节流孔外侧出口端处在所述支座1与上板2之间形成的空间处，内侧入口端处在支座1内部设有的支座通气道出口处，所述一个节流盖3对应一条支座通气道，所述支座1外部设有一个支座进气嘴10，所述若干条支座通气道的进气端汇总与所述支座进气嘴10连通，所述支座进气嘴10与气动系统的调速阀13的出口连接，所述调速阀13的进口通过串联的两个电磁阀16既与真空泵15管路连接，又通过减压阀19与压缩空气泵14管路连接，所述节流盖3与所述支座1之间形成的空间经过支座进气嘴10通过两个电磁阀16或者与压缩空气泵14连通或者与真空泵15连通。

所述上板2四个角部各设有一个吸盘4，所述每个吸盘4的气孔下面均与设置在上板2内部的一条上板通气道连通，四个上板通气道的进口汇总与设置在上板2上的上板进气嘴11连通，所述上板进气嘴11通过一个电磁阀17与真空泵15管路连接，

所述上板2上面置有一个平板状承片台6，所述承片台6上开有若干同心圆的环形槽，每个所述环形槽均互为联通，所述互为联通的环形槽下面通过承片台6内部设置的承片台通气道与安装在所述承片台6上的承片台进气嘴12连通，所述承片台进气嘴12通过一个电磁阀18与真空泵15管路连接。

本发明球形气动找平机构，其中各条所述支座通气道的长度相等，内径相同。

本发明球形气动找平机构，其中所述节流盖3的节流孔孔径为0.5～1mm。

本发明球形气动找平机构，其中所述支座进气嘴10前面经压缩空气泵14输入的气压力为0.4MPa，支座进气嘴10、上板进气嘴11以及承片台进气嘴12前面经真空泵15制造的负压为-0.08MPa。

本发明球形气动找平机构与现有技术不同之处在于本发明球形气动找平机构的支座上设有三个节流盖，节流盖上的节流孔既与压缩气源相通又与真空气源相通；上板设置的吸盘以及承片台设置的环形槽均与真空气源相通。支座与上板之间通入压缩空气时形成气膜，气膜将上板浮起；上板的吸盘通过真空泵将承片台吸附固定，承片台也通过真空泵将基片吸附固定，固定了基片的上板被气膜浮起后，既可通过版架十分便利的对上板找平且找平力还很小，另外找平时也减弱了支座与上板间的摩擦力，使得支座和上板不易出现摩损，增大了上板和支座的使用寿命。上板找平后，将支座与上板之间的压缩空气切换成由真空泵制造的真空状态，使支座与上板之间形成真空负压的吸附状态，上板连同其上的基片则会被锁紧，锁紧过程中，上板连同基片不会相对支座产生X、Y方向的位移，保持找平后的工作状态，从而极大地减少了基片被找平时的损坏率。本发明球形气动找平机构是一种理想的基片找平设备。

下面结合附图对本发明的球形气动找平机构作进一步说明。

附图说明

图1是球形气动找平机构结构未装承片台时的立体结构示意图。