[发明专利]用于制造反向反射器模具和反向反射微结构的方法及其装置

权利要求书

1.一种用于制造反向反射器模具的方法，其包括：

提供其至少一个表面上具有光敏涂层的基底；

通过将所述光敏涂层选择性地曝光至一束电磁辐射而在所述光敏涂层中产生表面浮突的微结构化图案；

将所述光敏涂层的曝光部分显影，以在所述基底表面上形成反向反射微结构化图案；和

将所述反向反射微结构化图案转印到在其表面上包括所述反向反射微结构化图案的反向反射器模具中。

2.根据权利要求1所述的方法，其中产生所述表面浮突的微结构化图案包括激光图案生成。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述激光图案生成是由计算机系统根据其上加载的位图文件而控制。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括三角形、六边形、五边形或矩形投影的孔径反向反射器。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括多种类型的反向反射器。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括在倾斜、旋转、高度和尺寸上具有变动的个别棱柱。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括棱柱、透镜、凸透镜、支座、结构元件、平坦区域或辐射区。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底包括圆柱形鼓。

9.根据权利要求8所述的方法，其中产生所述表面浮突的微结构化图案包括随着所述电磁辐射束选择性地曝光所述光敏涂层而沿所述圆柱形鼓的旋转轴旋转所述圆柱形鼓。

10.根据权利要求1所述的方法，其中转印所述反向反射微结构化图案形成圆柱形反向反射器模具。

11.一种用于制造反向反射薄板的方法，其包括：

提供其表面上具有光敏涂层的基底；

通过将所述光敏涂层选择性地曝光至一束电磁辐射而在所述光敏涂层中产生表面浮突的微结构化图案；

将所述光敏涂层的曝光部分显影，以在所述基底表面上形成反向反射微结构化图案；

将所述反向反射微结构化图案转印到在其表面上包括所述反向反射微结构化图案的反向反射器模具中；和

由所述反向反射器模具形成其表面上含有所述反向反射微结构化图案的反向反射薄板。

12.根据权利要求11所述的方法，其中产生所述表面浮突的反向反射微结构化图案包括激光图案生成。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述激光图案生成是由在其上加载位图文件的计算机系统控制。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括三角形、六边形、五边形或矩形投影的孔径反向反射器。

15.根据权利要求11所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括多种类型的反向反射器。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括在倾斜、旋转、高度和尺寸上具有变动的个别棱柱。

17.根据权利要求11所述的方法，其中所述反向反射微结构化图案包括棱柱、透镜、凸透镜、支座、结构元件、平坦区域或辐射区。

18.根据权利要求11所述的方法，其中所述基底包括圆柱形鼓。

19.根据权利要求18所述的方法，其中产生所述表面浮突的微结构化图案包括随着所述电磁辐射束沿所述圆柱形鼓的旋转轴选择性地曝光所述光敏涂层而旋转所述圆柱形鼓。

20.根据权利要求11所述的方法，其中转印所述反向反射微结构化图案形成圆柱形反向反射器模具。

21.根据权利要求11所述的方法，其中所述反向反射薄板包括无缝薄板，其表面上具有所述反向反射微结构化图案。

22.一种无缝反向反射薄板，其包括表面被构造来反向反射光的多个反向反射器，其中所述多个反向反射器是以连续反向反射微结构化图案形成。

23.根据权利要求22所述的反向反射薄板，其中所述反向反射微结构化图案包括三角形、六边形、五边形或矩形投影的孔径反向反射器。