[发明专利]用于执行等离子体化学气相沉积过程的装置

权利要求书

1.一种用于执行等离子体化学气相沉积过程的装置，包括圆柱形的谐振器，所述谐振器设有包围谐振腔的圆柱形外壁，所述谐振腔具有相对于圆柱轴线旋转对称的形状，所述谐振器还设有在相对的圆柱轴线方向限制所述谐振腔的侧壁部，其中所述装置还包括微波波导部，所述微波波导部的一端穿过圆柱形外壁延伸到谐振腔中，并且其中所述谐振器包括环形元件，所述环形元件至少部分限定所述腔在圆柱方向的侧表面，使得所述谐振腔在圆柱方向上的长度根据到所述圆柱轴线的径向距离变化。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述环形元件成形为截头圆锥，所述截头圆锥具有与所述谐振器的圆柱轴线一致的纵轴线并向所述腔的相对的侧表面逐渐变细。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，在一定范围内，所述腔的圆柱长度根据相对于所述圆柱轴线增大的径向距离增大。

4.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述谐振器还设有在径向方向上朝向所述圆柱轴线限制所述谐振腔的圆柱形内壁，以及其中所述圆柱形内壁具有绕所述圆柱轴线沿圆周方向延伸的缝。

5.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述环形元件与所述谐振器的侧壁部和/或所述圆柱形内壁是一体的。

6.根据权利要求1或2所述的装置，其中在所述腔的纵向端，所述腔的侧表面处垂直于所述圆柱轴线沿至少1mm的距离延伸。

7.根据权利要求4所述的装置，其中所述环形元件填充所述圆柱形内壁与所述圆柱形外壁之间沿径向方向以及侧壁部与所述缝的边缘之间沿圆柱方向限制的体积的一部分，其中被所述环形元件填充的体积部分在10％到95％的范围。

8.根据权利要求1或2所述的装置，还包括连接到所述微波波导部的第二端的微波产生器连接器。