[发明专利]等离子体制粉弧源

说明书

技术领域

本发明涉及制粉弧源，特别是涉及一种等离子体制粉弧源。

背景技术

目前在新材料冶金、纳米粉制备领域，国内外普遍采用一种比较先进的工艺方法《电弧等离子体》方法来实现高品质的纳米粉制备，这一先进的工艺方法要求，制粉弧源能提供大功率连续脉冲等离子电弧，而传统的纳米粉制粉弧源一般采用大功率直流电源，其产生的自由电弧温度在6000-8000度之间，且弧柱能量不够集中，若要提高温度，增大弧柱能量密度，只能加大直流电源的功率，这样普遍存在能量损耗大，功率因数低、对电网有污染等问题，难以适应制备高品质纳米粉，更不能满足纳米粉制备连续化、产业化的要求。

发明内容

本发明就是为了解决上述问题而提供一种等离子体制粉弧源，目的是降低能耗，提高功率因数，输出脉冲等离子电弧。

为达上述目的本发明等离子体制粉弧源，由下述结构构成功率因数校正装置的输入端与电源连接，功率因数校正装置的输出端与降压变压器的输入端连接，降压变压器的输出端与变流装置的输入端连接，变流装置的输出端与摆动电抗器的输入端连接，反馈控制系统的输入端接在摆动电抗器的输出端，反馈控制系统的输出端与变流装置反馈信号接收端连接。

所述的电源为380伏交流电源。

所述的反馈控制系统为PWM。

本发明的优点效果：摆动电抗器解决了其电感量在不同工作电流情况下随动负载变化的能力，即大电流时，电感量变小，使系统的响应加快，满足脉冲上升与下降沿的速度要求；反之，小电流时，电感量变大，满足系统小电流连续的要求。功率因数校正装置解决了传统制粉弧源功率因数普遍偏低，自身损耗大的缺点，成功地满足了制备纳米粉的要求，实现了大功率脉冲等离子弧的连续输出，功率因数达0.95，自身损耗小于2.5%，工作时输出的脉冲等离子电弧温度高达1.5-3万度，能量密度高度集中。

附图说明

图1是本发明的结构框图。

图中：1、功率因数校正装置 2、降压变压器 3、变流装置 4、摆动电抗器 5、反馈控制系统。 

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明。

如图所示本发明等离子体制粉弧源，由下述结构构成：功率因数校正装置1的输入端与电源连接，功率因数校正装置1的输出端与降压变压器2的输入端连接，降压变压器2的输出端与变流装置3的输入端连接，变流装置3的输出端与摆动电抗器4的输入端连接，反馈控制系统5的输入端接在摆动电抗器4的输出端，反馈控制系统5的输出端与变流装置3反馈信号接收端连接。

所述的电源为380伏交流电源。

所述的反馈控制系统为PWM。