[发明专利]一种新型二元复配防垢剂无效
申请号: | 201210484064.4 | 申请日: | 2012-11-13 |
公开(公告)号: | CN103803723A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 李兰 | 申请(专利权)人: | 李兰 |
主分类号: | C02F5/12 | 分类号: | C02F5/12 |
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地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 二元 复配防垢剂 | ||
技术领域
本发明涉及一种新型二元复配防垢剂。
背景技术
除垢剂是一种去除水垢,污垢等多种垢渍的化学制剂,一般由多种组分复配而成。工业用除垢剂主要用于去除换热设备,锅炉等内的污垢。
除垢剂常用种类及其特点:
(1)无机聚磷酸盐。此类是最早使用的除垢剂,国外已限制使用。其分子中有一个或多个重复的P-O-P键存在,可分为链状聚磷酸盐和环状聚磷酸盐。无机聚磷酸盐的缺点是易受潮水解生成正磷酸盐,在高温和高pH值下尤甚,与二价阳离子如Ca2+、Mg2+等反应而结垢。
(2)有机磷酸酯。常见的有机磷酸酯有单烷基磷酸酯、双烷基磷酸酯、焦磷酸酯、聚氧乙烯脂肪醚磷酸酯等。有机磷酸酯中P-O-C键比磷酸盐P-O-P键强,因此它比磷酸盐稳定,水解温度比磷酸盐高。磷酸酯的许多性质与磷酸盐类似,使用时用量不宜过高,过高反而易生成垢。磷酸酯易粘附于设备表面,与缓蚀剂等的相容性好,但与油类易发生乳化,所以在油田中使用时需要加入防乳化剂,在温度超过90℃时会发生象无机聚磷酸盐那样的水解现象,其水解产物也能与二价金属阳离子反应而结垢。硫酸锶白色结晶性粉末。无气味。1g溶于约8800ml水、700ml 3%硝酸、800ml2%盐酸,微溶于氯化碱溶液、浓酸,不溶于乙醇和稀硫酸。相对密度3.96。熔点1605℃。折光率1.624。
(3)有机多元膦酸。膦酸中的C-P键牢固,因此有较高的化学稳定性和热稳定性,在高温、高pH值条件下也难水解,无毒或低毒。例如乙二胺四甲叉磷酸在200℃的高温及1013kPa下仍能保持其活性;羧基乙叉二膦酸在250℃的高温下才分解。该类除垢剂效果好,药剂用量小,并兼具缓蚀作用。已广泛应用于油田水处理。
(4)氨基多羧酸盐。氨基多羧酸盐是一种热稳定性较好的除垢剂,如EDTA的使用温度可达到200℃。此类除垢剂主要是通过鳌合作用防垢,因此加入的量多,成本高,所以在大量用水的工业过程中使用受到限制。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点和不足,提供一种新型二元复配防垢剂,该新型二元复配防垢剂由聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸混合而成,其除垢性能良好,当应用于除垢时的除垢率大大优于现有的除垢剂,且制造成本低,大大降低了除垢成本。
本发明的目的通过下述技术方案实现:一种新型二元复配防垢剂,由聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸混合而成,按照质量计,所述聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸的比值为4∶5~7∶5。按照质量计,所述聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸的比值为4∶5。
按照质量计,所述聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸的比值为5∶5。
按照质量计,所述聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸的比值为6∶5。
按照质量计,所述聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸的比值为7∶5。
综上所述,本发明的有益效果是:由聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸混合而成,其除垢性能良好,当应用于除垢时的除垢率大大优于现有的除垢剂,且制造成本低,大大降低了除垢成本。
具体实施方式
下面结合实施例,对本发明作进一步的详细说明,但本发明的实施方式不仅限于此。
实施例:
本发明涉及的一种新型二元复配防垢剂,由聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸混合而成,按照质量计,所述聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸的比值为4∶5~7∶5。
称取硫酸钡垢0.5000g,取50mg/L,100ml乙二胺四乙酸于锥形瓶,加入聚合物,然后滴加已经配制好的NaOH溶液,调节pH值至12,水浴锅调节温度为60℃,反应24小时,对硫酸钡进行除垢实验。得到实验数据,如下表所示:
由上表可以看出::在乙二胺四乙酸二钠盐中加入聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯对清除硫酸钡垢有一定的促进效果。实验观察,硫酸钡垢颗粒有分散现象,溶液有点浑浊,抽滤时比较困难。说明聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯参与了钡垢颗粒的分散。并得到了聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯和乙二胺四乙酸二钠盐二元复配时的最佳配方,为表中配方5,即m(聚马来酸酐-丙烯酸-丙烯酸甲酯)∶m(乙二胺四乙酸)为5∶5。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明做任何形式上的限制,凡是依据本发明的技术实质,对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化,均落入本发明的保护范围之内。
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