[发明专利]金属介质膜宽带脉冲压缩光栅

权利要求书

1.一种用于800纳米中心波长的金属介质膜宽带脉冲压缩光栅，特点在于其构成是在石英基底上自内向外依次的金属层（8）、介质膜组成的匹配层（7）和光栅刻蚀层（4）一体构成，所述的匹配层（7）自内向外由第一低折射率膜层（6）和第一高折射率层（5）构成、所述的光栅刻蚀层（4）自内向外由第二低折射率膜层（3）、第二高折射率层（2）和第三低折射率膜层（1）构成，所述的光栅刻蚀层（4）的光栅周期为490～640纳米，占空比为0.2～0.4。

2.根据权利要求1所述的金属介质膜宽带脉冲压缩光栅，其特征在于所述的金属层（6）的材料为金、银或是铝，其厚度大于50纳米。

3.根据权利要求1所述的金属介质膜宽带脉冲压缩光栅，其特征在于所述的高折射率层的材料为TiO₂，HfO₂或Ta₂O₅；所述的低折射率膜层的材料为SiO₂。

4.根据权利要求1所述的金属介质膜宽带脉冲压缩光栅，其特征在于所述的第一高折射率层（5）的厚度为100～200纳米；第二高折射率层（2）的厚度为100～250纳米；所述的第一低折射率膜层（6）的厚度为50～200纳米；第二低折射率膜层（3）的厚度20～200nm；第三低折射率膜层（1）的厚度不超过170纳米。