[发明专利]一种高透光率的单银低辐射玻璃

说明书

技术领域：

本发明涉及一种高透光率的单银低辐射玻璃。

背景技术：

现有的玻璃，在实现防辐射功能的同时，又导致其透光率较低，故有必要对现有的玻璃作出改进，以提供一种既能防辐射，又具有高透光率的玻璃。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种高透光率的单银低辐射玻璃，其可在保证透光率的同时，降低红外辐射。

一种高透光率的单银低辐射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于：还包括由下而上依次设于玻璃基材上表面的一TiO₂介质层、一NbO_x折射层、一CrN_x阻挡层、一AZO平整层、一降辐射镀Ag层、一CrN_xO_y膜层、以及一SnO₂保护层。

作为上述方案的一种改进，所述TiO₂介质层的厚度为10~30nm。

作为上述方案的进一步改进，所述NbO_x折射层的厚度为5~10nm。

作为上述方案的进一步改进，所述CrN_x阻挡层的厚度为0.5~3nm。防止Ag被氧化。

作为上述方案的进一步改进，所述AZO平整层的厚度为5~20nm。平滑所述CrN_x阻挡层，为Ag层作铺垫，降低辐射率。

作为上述方案的进一步改进，所述降辐射镀Ag层的厚度为7~10nm，可大大降低红外辐射。

作为上述方案的进一步改进，所述CrN_xO_y膜层的厚度为0.5~5nm。可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

作为上述方案的进一步改进，所述SnO₂保护层的厚度为20~50nm。耐腐蚀性好。

本发明具有如下优点：其透光率可达83%，辐射率小于0.08。

附图说明：

图1为本发明结构剖视图。

具体实施方式：

如图所示，一种高透光率的单银低辐射玻璃，包括玻璃基材1、以及由下而上依次设于玻璃基材1上表面的一TiO₂介质层2、一NbO_x折射层3、一CrN_x阻挡层4、一AZO平整层5、一降辐射镀Ag层6、一CrN_xO_y膜层7、和一SnO₂保护层8。

所述TiO₂介质层2的厚度为10~30nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶，用氧气作反应气体，将靶材上的材料打到玻璃基材表面，最终形成TiO₂介质层。

所述NbO_x折射层3的厚度为5~10nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射陶瓷铌靶，最终在TiO₂介质层表面形成NbO_x折射层。

所述CrN_x阻挡层4的厚度为0.5~3nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气作反应气体，最终在NbO_x折射层表面形成CrN_x阻挡层。

所述AZO平整层5的厚度为5~20nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用中频交流电源溅射陶瓷Zn（AZO）靶，最终在CrN_x阻挡层表面形成AZO平整层，为Ag层作铺垫，降低辐射率。

所述降辐射镀Ag层6的厚度为7~10nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射银靶，最终在AZO平整层表面形成降辐射镀Ag层。

所述CrN_xO_y膜层7的厚度为0.5~5nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气做反应气体，渗少量氧气，最终在降辐射镀Ag层表面形成CrN_xO_y膜层，可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

所述SnO₂保护层8的厚度为20~50nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射锡靶，用氧气作反应气体，最终在CrN_xO_y膜层表面形成SnO₂保护层，耐腐蚀性好。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明专利范围所做的同等变化与修饰，皆落入本发明专利涵盖的范围。