[发明专利]焦点位置改变设备及使用其的共焦光学设备有效

专利信息
申请号: 201210488295.2 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN103309030A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 石原满宏 申请(专利权)人: 株式会社高岳制作所
主分类号: G02B26/02 分类号: G02B26/02;G01B11/24
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 舒雄文;蹇炜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 焦点 位置 改变 设备 使用 光学
【权利要求书】:

1.一种焦点位置改变设备,设置在具有光源和物镜的共焦光学设备的光路上并配置为改变所述物镜在所述物镜的光轴方向上的焦点位置,所述焦点位置改变设备包括:

多个光路改变块,每个光路改变块由平行板形状的透明体形成并配置为彼此的折射率和厚度的至少之一不同;

旋转板,所述多个光路改变块沿所述旋转板的旋转方向布置在所述旋转板上以与所述物镜的光轴交叉,所述旋转板配置为具有形成于所述旋转板的在所述光源一侧的表面上的预定区域中的抗反射层;以及

驱动单元,配置为旋转所述旋转板。

2.根据权利要求1所述的焦点位置改变设备,其中,

所述旋转板设置在所述光源与所述物镜之间的所述光路上,以容许所述多个光路改变块与所述物镜的所述光轴在所述光源一侧相交。

3.根据权利要求1所述的焦点位置改变设备,其中,

所述旋转板包括多个光束通过部分,所述多个光束通过部分配置为分别对应于所述多个光路改变块;

所述多个光路改变块中的每一个设置在位于所述旋转板的与所述光源一侧相反的表面上且对应于所述多个光束通过部分中的每一个的位置处;并且

所述预定区域是如下区域:在所述旋转板的在所述光源一侧的表面上,并且至少包括待以所述光源的光束辐照的除所述多个光束通过部分所设置的区域外的区域。

4.根据权利要求1所述的焦点位置改变设备,其中,

所述抗反射层由以下之一形成:附加于所述旋转板的抗反射材料、施加于所述旋转板的黑色类型的涂料、以及通过粗化所述旋转板的表面而形成的层。

5.一种共焦光学设备,包括:

光源;

光圈板,所述光圈板中形成有多个共焦光圈;

物镜,配置为将通过所述多个共焦光圈的光束中的每一个会聚于物侧会聚点,并且再次将通过在测量物体处的会聚光束的反射形成的反射光束中的每一个会聚于分别对应于物侧会聚点的所述共焦光圈中的每一个处;

焦点位置改变单元,配置为包括:多个光路改变块,均由平行板形状的透明体形成并且彼此的折射率和厚度的至少之一不同;旋转板,所述多个光路改变块沿所述旋转板的旋转方向布置在所述旋转板上以与所述物镜的光轴交叉,所述旋转板具有形成于所述旋转板的在所述光源一侧的表面上的预定区域中的抗反射层;以及驱动单元,配置为旋转所述旋转板,所述焦点位置改变单元配置为在每次与所述光轴交叉的所述光路改变块由所述旋转板的旋转改变时,离散地改变所述物镜在光轴方向上的焦点;以及

成像系统,配置为接收由所述测量物体反射并且再次会聚于所述共焦光圈处的光束。

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