[发明专利]风口位置调节装置有效
申请号: | 201210490112.0 | 申请日: | 2012-11-27 |
公开(公告)号: | CN103831725A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 李佳 | 申请(专利权)人: | 苏州工业园区高登威科技有限公司 |
主分类号: | B24B55/06 | 分类号: | B24B55/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215121 江苏省苏州市工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 风口 位置 调节 装置 | ||
技术领域
本发明涉及打磨器技术领域,尤其涉及一种打磨器风口吸屑的风口位置调节装置。
背景技术
在机械制造过程,对于焊接、铆接等工件连接中,焊接或铆接完成后表面都需要进行打磨、抛光处理,是的产品表面圆润、光滑,具有较好的视觉感。但是在打磨过程中必定会产生一些细屑,若不对这些细屑做处理,则会到处乱飞或时间长了堆积很厚。而现有技术中,提出一种吸屑结构,其固定装置在打磨器的某一角落位置,其虽然可以吸收大部分的吸屑,但是长期下来,还是会产生很多吸屑的积累,吸收效果不是很理想。
因此,有必要提出一种改进技术来解决以上问题。
发明内容
本发明的目的在于提出一种解决上述技术问题的风口位置的调节装置。为实现上述目的,本发明提出的一种风口位置调节装置,包括:
工作台,用于工件加工;
入风口,吸收加工过程中所产生的细屑;
刻度尺,设于所述工作台面上,位于所述入风口的一侧;
指针,固定于所述入风口侧面,指向所述刻度尺;
其中,所述入风口设于所述工作台上,所述入风口可沿着与所述刻度尺相对方向横向移动,该横向移动方向一端设有打磨器。
作为本发明的进一步改进,所述工作台对应所述入风口位置开设有长方形的开口,所述入风口在所述开口区域内移动。
作为本发明的进一步改进,所述刻度尺靠近所述打磨器的宽与所述长方形开口靠近所述打磨器的宽对齐。
作为本发明的进一步改进,所述刻度尺与所述长方形的开口平行设置。
作为本发明的进一步改进,所述入风口为长方形,所述入风口的长和宽与所述长方形开口的长和宽相对应。
作为本发明的进一步改进,所述刻度尺与所述入风口平行。
作为本发明的进一步改进,所述入风口相对于工作台的高度低于所述打磨器相对于所述工作台的高度。
作为本发明的进一步改进,所述入风口与吸尘器相连。
本发明提出一种具有机动性、吸收吸屑效果更好,效率更高的风口位置的调节装置。
附图说明
图1是本发明的一种风口位置调节装置详细结构示意图;
图2是本发明的一种风口位置调节装置整体结构示意图。
具体实施方式
以下将结合附图所示的具体实施方式对本发明进行详细描述。但这些实施方式并不限制本发明,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本发明的保护范围内。
请参图1和图2所示,为本发明的一种风口位置调节装置结构示意图,包括:工作台10,用于工件加工;入风口20,吸收加工过程中所产生的细屑,其与吸尘器(未图示)相连接;刻度尺30,设于所述工作台10面上,位于所述入风口20的一侧,作为该风口装置的调节的标准;指针21,固定于所述入风口20侧面,指向所述刻度尺30,其指针21在刻度尺30上的位置很容易看出该风口位置调节装置的位置信息。
其中,所述入风口20设于所述工作台10上,工作台10对应所述入风口20位置开设有长方形的开口40,所述入风口20可沿着与所述刻度尺30相对方向横向移动,即沿着长方形开口40的长的方向移动。该横向移动方向一端设有打磨器50,打磨器50位于开口40的宽的一侧,该入风口20移动过程中,则使入风口20靠近打磨器50或远离打磨器50,即完成了打磨器50的需求,根据打磨位置不同,其入风口20对应的移动,可以最大程度上满足吸取吸屑的需求。
本发明中,该刻度尺30靠近所述打磨器50的宽与所述长方形开口40靠近所述打磨器50的宽对齐,所述入风口20为长方形,所述入风口20的长和宽与所述长方形开口40的长和宽相对应。该刻度尺30与所述长方形开口40平行设置,这样就与入风口20也平行。
在本实施方式中,入风口20相对于工作台10的高度低于所述打磨器50相对于所述工作台10的高度。该设置入风口20移动过程中,不会触碰到打磨器50,不会影响打磨器50正常工作。
应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施方式中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本发明的可行性实施方式的具体说明,它们并非用以限制本发明的保护范围,凡未脱离本发明技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本发明的保护范围之内。
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