[发明专利]皮炎治疗剂无效
申请号: | 201210495125.7 | 申请日: | 2006-10-05 |
公开(公告)号: | CN103030628A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 直塚敦子;菊地松夫 | 申请(专利权)人: | 田边三菱制药株式会社 |
主分类号: | C07D401/04 | 分类号: | C07D401/04;C07F7/18 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 皮炎 治疗 | ||
1.一种下式的化合物或其水合物,或者其药理上可允许的盐:
2.一种下式[I]的化合物或其药理上可允许的盐的制备方法:
其中,R1和R2各自表示低级烷氧基,=X-表示式所示的基团,
环A表示式:所示的基团,和表示双键,所述方法包括以下步骤:
(a)将由下式[III-a]或[III-b]表示的光学活性四氢喹啉化合物和下式[II]的化合物缩合:
其中,OZ表示被保护的羟基,
其中,Ra表示羧基的保护基,=X1-表示式所示的基团,Rb表示羧基的保护基,Y为卤原子,
(b)将所述反应产物还原,然后
(c)从所述产物除去所述羟基的保护基。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述化合物[II]中的Ra为低级烷基,所述化合物[II]中的Rb为低级烷基和所述化合物[III-a]或[III-b]中的Z为叔丁基二甲基甲硅烷基。
4.根据权利要求3所述的方法,其中所述步骤(b)中的还原在硼氢化钠的存在下进行。
5.一种光学活性四氢喹啉化合物,所述光学活性四氢喹啉化合物由下式表示:
其中,OZ表示被保护的羟基。
6.根据权利要求5所述的光学活性四氢喹啉化合物,其中Z为叔丁基二甲基甲硅烷基。
7.一种由下式表示的光学活性四氢喹啉化合物的制备方法:
其中,OZ表示被保护的羟基,所述方法包括以下步骤:
(a)使由下式[v]表示的4-氧代四氢喹啉化合物在CBS催化剂和硼氢化物类化合物的存在下进行不对称还原:
其中,R表示氨基的保护基,然后,
(b)向所述产物的4位羟基上导入保护基,和
(c)除去所述氨基的保护基R。
8.根据权利要求7所述的方法,其中Z为叔丁基二甲基甲硅烷基,R为苄氧羰基和所述CBS催化剂为(R)-2-甲基-CBS-噁唑硼烷或(S)-2-甲基-CBS-噁唑硼烷。
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