[发明专利]偏移正交相移键控信号的产生方法及发射机有效

专利信息
申请号: 201210496860.X 申请日: 2012-11-29
公开(公告)号: CN103001921A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 金海鹏 申请(专利权)人: 泰凌微电子(上海)有限公司
主分类号: H04L27/38 分类号: H04L27/38
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 卢刚
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 偏移 正交 相移 键控 信号 产生 方法 发射机
【权利要求书】:

1.一种偏移四相相移键控信号的产生方法,其特征在于,包含以下步骤:

将含有同相I和正交Q两路信息的偏移四相相移键控OQPSK信号转化成一路调频信号的输入比特流;

将所述输入比特流与异或掩模进行异或;其中,选择不同的所述异或掩模用于取舍同相I和正交Q通道的相位关系和共轭关系;

将所述进行异或得到的比特流延时一个比特单位时间之后,与所述进行异或得到的比特流进行异或操作,得到等效比特流;

将所述得到的等效比特流映射到正负1/4波特率的频偏上,采用2FSK调频器根据映射后的比特流进行调制,得到与OQPSK信号完全等效的中心为载波频率的射频信号。

2.根据权利要求1所述的偏移四相相移键控信号的产生方法,其特征在于,在所述将所述输入比特流与异或掩模进行异或的步骤中,包含以下子步骤:

生成无限重复的0110或0011序列,作为所述异或掩模。

3.根据权利要求2所述的偏移四相相移键控信号的产生方法,其特征在于,在所述将所述输入比特流与异或掩模进行异或的步骤中,还包含以下子步骤:

选择无限重复的0110序列为所述异或掩膜,取同相I分量的相位超前正交Q分量的相位90度。

4.根据权利要求2所述的偏移四相相移键控信号的产生方法,其特征在于,在所述将所述输入比特流与异或掩模进行异或的步骤中,还包含以下子步骤:

选择无限重复的0011序列为所述异或掩膜,取正交Q分量的相位超前同相I分量的相位90度。

5.根据权利要求1所述的偏移四相相移键控信号的产生方法,其特征在于,在所述将所述得到的等效比特流映射到正负1/4波特率的频偏上的步骤中,包含以下子步骤:

将所述等效比特流中的0和1分别映射为1和-1;

将1和-1分别对应为1/4T和-1/4T的频偏;其中,所述T是传输速率的倒数。

6.一种偏移四相相移键控信号发射机,其特征在于,包含:

数字转换模块,用于将含有同相I和正交Q两路信息的OQPSK信号转化成一路调频信号的输入比特流;

第一异或模块,用于将所述数字转换模块转换得到的输入比特流与异或掩模进行异或;其中,选择不同的所述异或掩模用于取舍同相I和正交Q通道的相位关系和共轭关系;

第二异或模块,用于将所述第一异或模块得到的比特流延时一个比特单位时间之后,与所述第一异或模块得到的比特流进行异或操作,得到等效比特流;

调制模块,用于将所述第二异或模块得到的等效比特流映射到正负1/4波特率的频偏上,采用2FSK调频器根据映射后的比特流进行调制,得到与偏移四相相移键控OQPSK信号完全等效的中心为载波频率的射频信号。

7.根据权利要求6所述的偏移四相相移键控信号发射机,其特征在于,还包含掩膜产生模块,用于生成所述异或掩膜;

所述异或掩膜是无限重复的0110或0011序列。

8.根据权利要求7所述的偏移四相相移键控信号发射机,其特征在于,还包含掩膜选择模块,用于选择所述掩膜产生模块生成的异或掩膜;

在所述掩膜选择模块选择无限重复的0110序列时,所述第一异或模块进行异或得到的比特流中同相I分量的相位超前正交Q分量的相位90度;

在所述掩膜选择模块选择无限重复的0011序列时,所述第一异或模块进行异或得到的比特流中正交Q分量的相位超前同相I分量的相位90度。

9.根据权利要求6所述的偏移四相相移键控信号发射机,其特征在于,所述调制模块包含以下子模块:

非归零码映射子模块,用于将所述等效比特流中的0和1分别映射为1和-1;

频偏对应子模块,用于将1和-1分别对应为1/4T和-1/4T的频偏;其中,所述T是传输速率的倒数。

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