[发明专利]分子玻璃正性光刻胶及其图案化方法

权利要求书

1.一种含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物，其特征在于，该衍生物具有通式I的结构：

其中，X为碳原子或者氮原子，优选为碳原子；

R₁，R₂，R₃，R₄分别选自氢原子；C₁-C₆烷基；未取代的或C₁-C₆烷基单取代的或C₁-C₆烷基多取代的苯基、噻吩基、噻唑基、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、萘基、或喹啉基；或含酸敏感基团的苯基、噻吩基、噻唑基、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、萘基、喹啉基；且R₁，R₂，R₃，R₄中至少一个是含酸敏感基团的苯基、噻吩基、噻唑基、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、萘基、喹啉基，所述R₁，R₂，R₃，R₄可以相同或不同。

2.如权利要求1所述的含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物，其特征在于，所述含酸敏感基团具有通式II的结构：

其中，R₅为CR₆R₇R₈，其中R₆、R₇和R₈独立地为C₁-C₆烷基，C₁-C₆烷氧基，苯基，噻吩基，噻唑基，呋喃基，吡啶基，嘧啶基，吡咯基，萘基，或喹啉基，且R₆、R₇和R₈可以相同或不同。

3.一种如权利要求1所述的含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

含氮六元杂环化合物与甲氧基芳基化合物反应生成甲氧基芳基取代含氮六元杂环化合物；

所述甲氧基芳基取代含氮六元杂环化合物脱去甲基生成羟基芳基取代含氮六元杂环化合物；以及

用酸敏感基团对羟基芳基取代含氮六元杂环的酚羟基进行保护得到含酸敏感基团的六元含氮杂环化合物。

4.一种如权利要求3所述的含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

具有通式III的含氮六元杂环溴代物与甲氧基苯硼酸反应生成甲氧基芳基取代含氮六元杂环化合物；

其中，X为碳原子或者氮原子，优选为碳原子；R_s1，R_s2，R_s3，R_s4分别选自氢原子，溴原子,C₁-C₆烷基，未取代的或C₁-C₆烷基单取代或C₁-C₆烷基多取代的苯基、噻吩基、噻唑基、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、萘基、喹啉基，且R_s1，R_s2，R_s3，R_s4中至少一个是溴原子，所述R_s1，R_s2，R_s3，R_s4可以相同或不同。

所述甲氧基芳基取代含氮六元杂环与三溴化硼BBr₃反应脱去甲基生成羟基芳基取代含氮六元杂环化合物；以及

用叔丁氧羰基化合物对所述羟基芳基取代含氮六元杂环的酚羟基进行保护得到含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物。

5.一种正性光刻胶组合物，包括：

至少一种如权利要求1所述的含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物，

至少一种光致产酸剂（PAG），和

用于溶解所述含酸敏感基团的六元含氮杂环衍生物和所述光致产酸剂的溶剂。