[发明专利]有机电致发光装置的制造方法有效
申请号: | 201210498618.6 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN103137904A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 森山孝志;和泉望;远藤太郎;广木知之;盐原悟;佐藤信彦 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 电致发光 装置 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及包括有机电致发光元件的有机电致发光装置的制造方法。
背景技术
有机电致发光装置是以矩阵图案将多个有机电致发光元件配置在基板上的装置。使用各自包括发例如红光、绿光和蓝光的有机电致发光元件组的像素能够显示全色图像。
每个有机电致发光元件具有如下结构,其中将厚度约几十毫米至几百毫米的有机化合物层配置在电极对之间。有机化合物层包括至少一个发光子层(sub-layer)。通过适当地选择发光材料,能够改变从有机电致发光元件发出的光的颜色。
真空气相沉积法广泛用于形成有机化合物层。在制造多色有机电致发光装置的过程中采用真空气相沉积法形成各自含有与有机电致发光元件对应的发光材料的层的情况下,使用具有与沉积区域对应的开口的金属掩模在预定的区域上选择性地形成含有预定发光材料的层。但是,由于金属掩模的热膨胀,金属掩模与用于沉积的基板的对准精度低,因此使用金属掩模的真空气相沉积法不适合制造高精细显示器。
日本专利No.4507759公开了不使用高精细金属掩模而采用光刻法以高精度选择性地形成有机化合物层的方法。具体地,在整个基板上形成有机化合物层,在有机化合物层上依次设置由水溶性聚合物制成的中间层和光刻胶层,采用已知技术将光刻胶层和中间层进行图案化,然后使用光刻胶层和中间层作为掩模来对有机化合物层进行图案化。对有机化合物层进行图案化后,通过将中间层溶解在水中来将中间层除去,也将光刻胶层从有机化合物层除去(剥离(lift off))。
如日本专利No.4507759中所述,为了减少由光刻胶的涂布、曝光和显影对有机化合物层产生的损伤,在有机化合物层和光刻胶层之间配置中间层。由于中间层由这样的水溶性材料制成,因此能够通过将中间层溶解在水中而将光刻胶层除去,因此不损伤有机化合物层。
但是,通过溶解中间层将光刻胶层除去后,由于光刻胶层不溶于水,因此剥离的光刻胶层的片损伤在基板上残留的有机化合物层的表面。一些情况下这产生发光缺陷。而且,难以通过溶解水溶性聚合物将水溶性聚合物从有机化合物层完全除去,因此在有机化合物层的表面或界面上残留绝缘性的水溶性聚合物。这可能引起有机电致发光元件的驱动电压的增加。
发明内容
本发明为了解决上述问题而完成并且提供有机发光装置的制造方法,该方法能够防止有机化合物层的表面损伤或者能够防止由绝缘材料制成的中间层残留在有机化合物层上。具体地,有机电致发光装置的制造方法,该有机电致发光装置包括基板和配置在该基板上的有机电致发光元件,该有机电致发光元件各自包括第一电极、第二电极的部分和配置在第一电极和第二电极之间的有机化合物层,该制造方法包括:在设置有第一电极的基板上依次形成第一有机化合物层、第一牺牲层和中间层的步骤;在中间层的预定区域上选择性地形成掩模层的步骤;从没有用掩模层覆盖的区域部分地将中间层、第一牺牲层和第一有机化合物层除去的步骤;在残留的中间层和将第一有机化合物层除去的区域上依次形成第二有机化合物层和第二牺牲层的步骤;以使中间层与溶解液接触并且溶解在其中的方式将中间层和其上形成的层除去的步骤;以使第一和第二牺牲层与溶解液接触并且溶解在其中的方式将第一和第二牺牲层除去的步骤;和在第一电极上残留的第一和第二有机化合物层上形成第二电极的步骤。或者,有机电致发光装置的制造方法,该有机电致发光装置包括基板和配置在该基板上的有机电致发光元件,该有机电致发光元件各自包括第一电极、第二电极的部分和配置在第一电极和第二电极之间的有机化合物层,该制造方法依次包括:在设置有第一电极的基板上依次形成第一有机化合物层、第一牺牲层和第一中间层的步骤;在第一中间层的预定区域上选择性地形成掩模层的步骤;从没有用掩模层覆盖的区域部分地将第一中间层、第一牺牲层和第一有机化合物层除去的步骤;在残留的第一中间层和将第一有机化合物层除去的区域上依次形成第二有机化合物层和第二牺牲层的步骤;以使第一中间层与第一溶解液接触并且溶解在其中的方式将第一中间层和其上形成的层除去的步骤;在第一牺牲层和第二牺牲层上形成第二中间层的步骤;在位于具有第一牺牲层的区域和具有第二牺牲层的区域中的区域上的第二中间层的部分上选择性地形成另一掩模层的步骤;从没有用该掩模层覆盖的区域部分地将第二中间层、第二牺牲层和第二有机化合物层除去的步骤;在残留的第二中间层和将第二有机化合物层除去的区域上依次形成第三有机化合物层和第三牺牲层的步骤;以使第二中间层与第二溶解液接触并且溶解在其中的方式将第二中间层和其上形成的层除去的步骤;以使第一至第三牺牲层与溶解液接触并且溶解在其中的方式将第一至第三牺牲层除去的步骤;和在第一至第三有机化合物层上形成第二电极的步骤。
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