[发明专利]一种激光蒸发镀膜装置

权利要求书

1.一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：包括

一真空反应腔，该真空反应腔的侧壁密封设有一窗口；

一基板架，设于真空反应腔内，用以放置待镀膜基板或基片；

一CO₂激光器，位于真空反应腔外并水平设置，其激光横向发射并与所述窗口相对；

一He-Ne激光器，位于真空反应腔外并垂直设置，其激光纵向发射；

一分束镜，位于真空反应腔外并呈45度角设于CO₂激光器与He-Ne激光器所发出的激光束的相交位置处；

一聚焦凸透镜，设于分束镜与窗口之间的光路上；

一散焦凹透镜，设于聚焦凸透镜与窗口之间的光路上；

一钳锅，设于真空反应腔内并位于基板架的下方，用以盛放待蒸发材料；以及

一反射镜，设于真空反应腔内，并位于所述激光器、分束镜、聚焦凸透镜、散焦凹透镜和窗口所共同形成的光路上，且位于所述钳锅上方，用以将所述激光器发出的激光在由外而内依次经过分束镜、聚焦凸透镜、散焦凹透镜和窗口后，反射至所述钳锅内，对钳锅内的待蒸发材料进行激光加热蒸发，从而在基板架上的基材或基片表面气相沉积出含有所述待蒸发材料的膜层。

2.根据权利要求1所述的一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：所述钳锅与基板架之间还设有可调节的挡板，用以调节基材或基片表面的气相沉积镀膜范围。

3.根据权利要求1或2所述的一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：所述真空反应腔的侧壁上还设有一反射镜调整装置，用以改变所述反射镜与钳锅的相对位置并改变激光加热的范围。

4.根据权利要求3所述的一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：所述反射镜的反射面上还罩设有一可拆卸护板，用以防止反射镜在激光加热蒸发时被蒸汽分子玷污。

5.根据权利要求4所述的一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：所述护板为薄的透明玻璃板。

6.根据权利要求5所述的一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：所述窗口为由Ge或ZnSe材料制成的窗口。

7.根据权利要求6所述的一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：所述聚焦凸透镜的位置可沿光路移动调节。