[发明专利]与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法

权利要求书

1.一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）获取需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程：

2）利用所述四个角点的高程，在所述正方形二维基平面上运用随机中点法，通过多次迭代得到伪装遮障面的特征点的高程数据；

3）分析所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数，得出所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数的相似度，并根据所述各空间特征参数的相似度，利用强制评分法得出一所述需模拟区域与伪装遮障面的综合相似度；

4）所述综合相似度符合要求时根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据，制作与所述需模拟区域相匹配的伪装遮障面；否则返回步骤2），重复以上步骤。

2.根据权利要求1所述的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，所述空间特征参数包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及阴影函数。

3.根据权利要求1或2所述的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，利用激光测距仪、经纬仪或已测得的等高线图，获取所述需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程。

4.根据权利要求1所述的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，所述的制作与需模拟区域相匹配的伪装遮障面的步骤如下：

利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据将伪装遮障面的二维基平面分割成多个相同的正方形遮障单元，每一正方形遮障单元等分成8个三角遮障单元；

利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据计算每个三角遮障单元的各边边长；

根据计算的三角遮障单元的各边边长，对每个正方形遮障单元的上表面进行连续裁剪，使每个正方形遮障单元的上表面的裁剪线最多为两条；

采用缝合或粘接进行连接裁剪的边，形成正方形遮障单元，所述的正方形遮障单元间利用绑扎方式连接，制作而成伪装遮障面。