[发明专利]一种环形电阻膜片修正方法有效

专利信息
申请号: 201210505704.5 申请日: 2012-11-30
公开(公告)号: CN102945716A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 左湘汉;王惠峰;濛淑红;王广林;曾好 申请(专利权)人: 中国航天科技集团公司烽火机械厂
主分类号: H01C17/235 分类号: H01C17/235
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 611100 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 环形 电阻 膜片 修正 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及传感器制造领域,尤其涉及一种环形电阻膜片修正方法。

背景技术

环形合成膜电位计在制作过程中,需要对环形电阻膜片进行修刻,以使所述环形合成膜电位计的刻度精准。目前,对所述环形电阻膜片的修刻普遍采用的是边测量边修刻的方式,按照供电方式的不同可以分为两种,一种是恒压源供电,另一种是恒流源供电。

但是,在恒压源供电的修刻过程中,电刷的接触电阻会被引入整体电路中,从而影响测量精度。在恒流源供电的修刻过程中,电刷始终与碳膜接触,产生的震动会使得电刷与碳膜的接触不牢靠,因而影响测量的准确性。

可见,目前国内的电位计修刻的技术都会影响到测量的准确性。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种环形电阻膜片修正方法,以解决现有技术中修刻技术影响测量的准确性的问题,其具体方案如下:

一种环形电阻膜片修正方法,所述环形电阻膜片处于恒流源供电系统中,所述方法包括:

确定所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界;

将所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界之间的区域作为修刻区域;

在所述修刻区域上选取修刻点;

修刻头沿所述修刻点切入所述环形电阻膜片表面的碳粉层,并检测环形电阻膜片的总电压;

比较所述环形电阻膜片的总电压和预设的总电压;

当所述环形电阻膜片的总电压与预设的总电压相等时,停止修刻点的切入。

还包括:建立所述修刻量与总电压的对应关系,确定所述修刻点对应的预设总电压。

确定所述环形电阻膜片的中心零点位置的过程包括:

移动所述环形电阻膜片;

采集所述电刷触点与中心抽头间的电压,当所述电压为零时,所述环形电阻膜片停止移动,所述环形电阻膜片上与所述电刷触点对应的位置为中心零点。

移动所述环形电阻膜片的方法,包括:

将所述环形电阻膜片放置于旋转工作台上,旋转所述旋转工作台,所述环形电阻膜片随着所述旋转工作台旋转;

当采集到的所述电刷与中心抽头间的电压大于第一预设电压值时,所述旋转工作台高速旋转;

当采集到的所述电刷与中心抽头间的电压小于第一预设电压值时,所述旋转工作台减速旋转。

确定所述环形电阻膜片的碳膜边界的过程,包括:

移动所述电刷,采集所述电刷与中心零点间的输出电压;

绘制所述输出电压曲线,所述输出电压曲线存在四个电压突跳点,选取邻近两个电压突跳点连线中点所对应的环形电阻膜片的位置为所述环形电阻膜片的碳膜边界。

从上述技术方案可以看出,本发明公开的环形电阻膜片修正方法,通过修刻头切入环形电阻膜片表面的碳粉层,使碳粉层的厚度发生变化,从而使环形电阻膜片的总电压发生变化,当环形电阻膜片的总电压与预设的总电压相等时,停止切入,完成该点的修刻过程。利用本方法,引入总电压反馈算法可以免除加工时电刷的参与,提高了测量精度,同时使测量及修刻的过程得到简化。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例公开的环形电阻膜片修正方法的流程图;

图2为本发明实施例公开的确定中心零点的方法的流程图;

图3为本发明实施例公开的确定环形电阻膜片的碳膜边界的方法的流程图;

图4为本发明实施例公开的环形电阻膜片左端银带附近的输出电压曲线图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

本发明公开的环形电阻膜片修正方法的流程图如图1所示,包括:

步骤S11、确定所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界;

所述环形电阻膜片的中心零点和碳膜边界位置的确定,是环形电阻膜片修正的基础。

步骤S12、将所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界之间的区域作为修刻区域;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航天科技集团公司烽火机械厂,未经中国航天科技集团公司烽火机械厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210505704.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top