[发明专利]电荷输送膜形成用组合物、感光体、处理盒和图像形成设备有效
申请号: | 201210506698.5 | 申请日: | 2012-11-30 |
公开(公告)号: | CN103365129B | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 岩馆侑子;额田克己;山田涉;广濑英一;佐佐木知也;梶原贤志 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G5/06;G03G21/18;G03G15/00;C08F291/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 丁香兰,庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电荷 输送 形成 组合 感光 处理 图像 设备 | ||
1.一种电荷输送膜形成用组合物,所述组合物包含:
介电常数为5.0以上的溶剂;
选自由以下化合物(I-b)、(I-c)及(I-d)和下式(II)表示的化合物组成的组中的至少一种化合物;
含氟树脂颗粒;和
含氟分散剂,
其中,F表示电荷输送骨架,L’表示具有选自由衍生自烷烃的三价或四价基团、亚烷基、亚烯基、-C(=O)-、-N(R)-、-S-和-O-组成的组中的一种或多种的(n+1)价连接基团,R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基,m’表示1~6的整数,并且n表示2~3的整数,
(I-b):由以下式(V)表示的化合物
其中,Ar1~Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基,Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基,D表示由以下式(VI)表示的基团,c5~c9各自表示0~2的整数,k表示0或1,并且D的总数为1或2,
其中,在式(VI)中,L2表示二价连接基团,该二价连接基团具有直接连接到由Ar1~Ar4表示的芳基或者由Ar5表示的芳基或亚芳基的由-(CH2)n-O-表示的基团,并且n表示3~6的整数,
(I-c):由以下式(V)表示的化合物
其中,Ar1~Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基,Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基,D表示由以下式(VI)表示的基团,c5~c9各自表示0~2的整数,k表示0或1,并且D的总数为3~8,
其中,L2表示二价连接基团,该二价连接基团具有直接连接到由Ar1~Ar4表示的芳基或者由Ar5表示的芳基或亚芳基的由-(CH2)n-O-表示的基团,并且n表示1~6的整数,
(I-d):由以下式(V)表示的化合物
其中,Ar1~Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基,Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基,D表示由以下式(VII)表示的基团,c5~c9各自表示0~2的整数,k表示0或1,并且D的总数为1~8,
其中,L3表示二价连接基团,该二价连接基团具有选自由-C(=O)-、-N(R)-、-S-和作为-C(=O)-与-O-、-N(R)-或-S-的组合的基团组成的组中的一种或多种基团,且R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基。
2.如权利要求1所述的电荷输送膜形成用组合物,
其中,由式(VII)表示的所述基团为由以下式(VII-1)表示的基团,
其中,p1表示0~4的整数。
3.如权利要求1所述的电荷输送膜形成用组合物,
其中,由式(II)表示的所述化合物由以下式(V)表示,
其中,Ar1~Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基,Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基,D表示由以下式(VIII)表示的基团,c5~c9各自表示0~2的整数,k表示0或1,并且D的总数为1~8的整数,
其中,L表示作为衍生自烷烃的三价或四价基团与选自由亚烷基、亚烯基、-C(=O)-、-N(R)-、-O-和-S-组成的组中的一种或多种的组合的(n+1)价连接基团,R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基,并且n表示2~3的整数。
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