[发明专利]转印用转印片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210507299.0 申请日: 2012-11-30
公开(公告)号: CN103129201A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 高桥昌秀;昼间信幸 申请(专利权)人: 信越聚合物株式会社
主分类号: B41M5/382 分类号: B41M5/382;B32B3/02;B32B25/08;B32B25/20;B32B37/15;B32B37/06
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 杨黎峰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 转印用转印片 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种转印用转印片,所述转印用转印片是将硅橡胶片层压在基材膜的一个面上而成的,其特征在于,

所述硅橡胶片是,在与所述基材膜层压之前在开放系统中以100℃以上的温度进行加热处理后得到的片,

所述转印用转印片具有平面性,所述平面性为,在所述基材膜和所述硅橡胶片层压后的状态下制成100mm方形的层压片时,四角中的任意一个角的凸出量都是1mm以下。

2.根据权利要求1所述的转印用转印片,其特征在于,

所述基材膜和所述硅橡胶片的贴合面中的至少一个面是改性面,所述改性面是通过紫外线、电晕、等离子体或准分子光使其表面激发而进行改性的面;或者是通过硅烷偶联剂或底漆而进行改性的面。

3.根据权利要求1或2所述的转印用转印片,其特征在于,

所述基材膜由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺中的任意一种树脂所构成。

4.一种转印用转印片的制造方法,其是制造具有平面性的转印用转印片的方法,所述平面性为,在基材膜和硅橡胶片层压后的状态下制成100mm方形的层压片时,四角中的任意一个角的凸出量都是1mm以下,所述制造方法的特征在于,包括以下步骤:

成型步骤,在模具内使未固化状态的硅橡胶材料进行固化,并成型为所述硅橡胶片;

加热处理步骤,在开放系统中以100℃以上的温度,对所述成型步骤后的所述硅橡胶片进行加热处理;

层压步骤,对所述基材膜和所述加热处理步骤后的所述硅橡胶片进行层压并贴合在一起。

5.根据权利要求4所述的转印用转印片的制造方法,其特征在于,

所述制造方法还包括改性步骤,所述改性步骤是在所述层压步骤之前,将所述基材膜和所述加热处理步骤后的所述硅橡胶片的贴合面中的至少一个面作为改性面,所述改性面是通过紫外线、电晕、等离子体或准分子光使其表面激发而进行改性的面;或者是通过硅烷偶联剂或底漆而进行改性的面。

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