[发明专利]角度分解散射仪和检验方法无效

专利信息
申请号: 201210509955.0 申请日: 2008-04-17
公开(公告)号: CN103019043A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 埃瑞·杰弗里·登勃夫 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01N21/47;G01N21/956
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 角度 分解 散射 检验 方法
【权利要求书】:

1.一种检验方法,所述检验方法用于确定与通过用于在衬底上制造器件层的光刻工艺而被印刷在衬底上的目标图案的参数相关的值,所述方法包括:

采用包括高数值孔径的物镜的光学系统,所述物镜具有物平面和光瞳平面以将第一辐射束引导到参考部件上,以收集由所述参考部件反射或散射的辐射,并将第二辐射束进行投影,从而在像平面中形成物镜的光瞳平面的像;

沿着大致垂直于所述物平面的方向相对地移动参考部件和光学系统,以便将所述参考部件定位在与物平面具有不同距离的多个位置上;

当参考部件位于所述多个位置中的每一个上时,捕捉所述参考部件的散射仪光谱;

将所述参考部件的散射仪光谱存储为多个用于归一化的光谱;

采用光学系统将第一辐射束引导到目标图案上,以收集由所述目标图案反射或散射的辐射,并将第二辐射束进行投影,从而在像平面中形成物镜的光瞳平面的像;

捕捉所述目标图案的散射仪光谱;

确定目标图案和物平面之间的距离;

基于所确定的在所述目标图案和物平面之间的距离获得用于进行归一化的光谱;

采用所获得的用于进行归一化的光谱对所述目标图案的光谱进行归一化,以获得归一化光谱;以及

根据所述归一化光谱确定与所述参数相关的值。

2.根据权利要求1所述的方法,其中获得用于进行归一化的光谱包括选择所存储的用于进行归一化的光谱中的一个。

3.根据权利要求1所述的方法,其中获得用于进行归一化的光谱包括在所存储的多个用于进行归一化的光谱之间进行插值。

4.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个位置包括所述参考部件处于光学系统和物平面之间的至少一个位置以及所述参考部件处于物平面的不与光学系统同侧的另一侧处的至少一个位置。

5.一种检验方法,所述检验方法采用散射仪确定与通过用于在衬底上制造器件层的光刻工艺而被印刷在衬底上的目标图案的参数相关的值,所述方法包括:

采用散射仪中的参考部件替代衬底获得多个用于进行归一化的光谱,所述用于进行归一化的光谱在所述参考部件处于多个不同的离焦量值的情况下获得;

采用散射仪获得对于目标图案的测量光谱;

在获得测量光谱时确定离焦量的值;

采用与所确定的离焦量的值相对应的用于进行归一化的光谱对于所述测量光谱进行归一化,以获得归一化光谱;

根据所述归一化光谱确定与参数相关的值。

6.根据权利要求5所述的方法,还包括在对获得多个用于进行归一化的光谱的步骤进行重复之前,对获得测量光谱、确定离焦量的值、归一化测量光谱和确定与多个目标图案的参数相关的值的步骤进行重复。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,在确定离焦量的值、归一化测量光谱和确定与对于之前的目标图案的参数相关的值的同时,进行被重复的获得测量光谱的步骤。

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