[发明专利]光学元件、光学粘合剂和包括其的显示设备

说明书

技术领域

本发明涉及光学元件和包括其的显示设备。

背景技术

包括具有偏振板和堆叠其上的延迟膜的液晶显示器的显示设备在外部环境下易于变形。尤其是，当暴露于光时，显示设备可发生光泄露。已知由于在高温和高湿条件下被拉伸的偏振膜的收缩导致的光学各向异性，出现光泄露。

作为防止光泄露的方法，控制光学粘合剂的模量以调节压力。然而，该方法在防止光泄露方面有限制。尤其是，常规技术不允许故障测试中的一致的测定结果，因为其可根据视角而变化，由于难以区分受到光泄露的区域和没有光泄露的区域，因而在应用光学粘合剂时造成加工困难。此外，常规显示设备的光泄露粗略地与显示设备的尺寸成比例。

近来，已经开发将偏振板耦合到包括ITO膜等的透明导电膜的技术以提供改善的显示设备。然而，用于耦合偏振板和ITO膜的光学粘合剂造成了ITO膜的腐蚀，从而劣化显示设备的可用性。

发明内容

本发明的一个方面提供了光学元件，其包括透明导电膜；形成在所述透明导电膜上的光学粘合剂层；和堆叠在所述光学粘合剂层上的偏振板，其中，包含所述光学粘合剂层的样品的表面电阻差Rs2－Rs1小于约0.2Ω，通过制造在其上具有所述光学粘合剂层的所述偏振板，并在所述光学粘合剂层的反向上侧堆叠两个透明导电膜制备所述样品，其中，Rs1为所述样品的初始表面电阻，并且Rs2为将所述样品置于70℃和95%RH下48小时的表面电阻。

附图说明

图1为根据本发明的一个实施方式的光学元件侧视图；

图2为根据本发明的用于腐蚀评估的样品的侧视图；和

图3为根据本发明的用于光泄露评估的样品的侧视图。

1：透明导电膜，2：光学粘合剂层，3：偏振板

100：偏振板，200：光学粘合剂的固化产物，300：ITO膜

X：ITO膜的长度，Y：样品的长度，Z：用于表面电阻测量的长度

具体实施方式

在本发明的一个方面中，光学元件可包括光学粘合剂层。

光学粘合剂层可制造包含具有小于约0.2Ω的表面电阻差Rs2－Rs1的光学粘合剂层的样品。具体地，当通过制造在其上具有光学粘合剂层并在光学粘合剂层的反向上侧堆叠两个透明导电膜的偏振板制备包含光学粘合剂层的样品时，该样品可具有小于约0.2Ω的表面电阻差Rs2－Rs1，其中，Rs1为该样品的初始表面电阻，并且Rs2为置于70℃和95%RH 48小时的该样品的表面电阻。

为了将光学粘合剂层应用到触屏面板(TSP)上，将该光学粘合剂层与包括ITO膜等的透明导电膜接触。该光学粘合剂层用于防止该透明导电膜的腐蚀。

当通过腐蚀评估方法测得的表面电阻差Rs2－Rs1小于约0.2Ω时，附着于透明导电膜上的光学粘合剂层可防止透明导电膜的腐蚀。优选地，表面电阻差Rs2－Rs1可为约0.06Ω至约0.15Ω。

可使用本领域中已知的任何评估腐蚀特性的方法。例如，将光学粘合剂堆叠在偏振板上。然后，将该光学粘合剂置于35℃下固化3至5天，从而制备了具有堆叠其上的固化的光学粘合剂的偏振板。接着，将两个包括ITO膜等的透明导电膜堆叠在固化的光学粘合剂的反向上侧，从而提供样品。

图2为样品的一个实施方式的截面图。参照图2，固化的光学粘合剂200，即光学粘合剂层被堆叠在偏振板100上，且两个包括ITO膜等的透明导电膜300堆叠在固化的光学粘合剂200的反向上侧。堆叠在偏振板上的光学粘合剂层具有7cm的总长度Y。每个堆叠在该光学粘合剂层反向上侧的两个ITO膜的具有1cm的长度X，并且用于测量表面电阻的长度Z为6cm。

电阻测试仪连接至堆叠在光学粘合剂层反向上侧的各个ITO膜上，以测量初始表面电阻Rs1。接着，将该样品置于70℃和95%RH下48小时，然后用相同的方法测量表面电阻Rs2。基于表面电阻差Rs2－Rs1评估该光学粘合剂层的腐蚀特性。

在另一个实施方式中，该样品可具有小于约0.2Ω的表面电阻差Rs3－Rs1，其中Rs3为放置在60℃和95%RH下500小时的包括光学粘合剂层的样品的表面电阻。

在这个实施方式中，首先，以上述方法制备样品，接着测量样品的初始表面电阻Rs1。然后，将该样品置于60℃和95%RH下500小时，然后测量该样品的表面电阻Rs3。基于表面电阻差Rs3－Rs1，评估光学粘合剂层的腐蚀特性。该光学粘合剂层可产生小于约0.2Ω的表面电阻差Rs3－Rs1。优选地，表面电阻差Rs3－Rs1可为约0.06Ω至约0.15Ω。