[发明专利]一种高抗氧化性的高透节能门窗基材

说明书

技术领域：

本发明涉及一种高抗氧化性的高透节能门窗基材。

背景技术：

现有的门窗基材，尤其是镀有功能膜层的透明门窗基材，其透光率较低，同时，其抗氧化性较差，造成基材无法长时间存放。故有必要对现有产品作出改进，以提高其透光率和抗氧化性。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，其具有较高的透光率和较强的抗氧化性。

一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，包括基板，其特征在于：所述基板的上表面由下而上依次设有一Bi₂O₃折射层、一CrN_x阻挡层、一ZrO抗氧化层、一降辐射镀Ag层、一(CrNi)N_xO_y膜层、以及一SnO₂保护层。

本发明可通过如下方案进行改进：

上述所述Bi₂O₃折射层的厚度为15~25nm，具有高的折射率，其折射率可达2.3以上。

上述所述CrN_x阻挡层的厚度为0.5~3nm，防止降辐射镀Ag层被氧化。

上述所述ZrO抗氧化层的厚度为5~10nm，具有强的耐腐蚀性能，抗氧化性强。

上述所述降辐射镀Ag层的厚度为7~10nm，可大大降低红外辐射。

上述所述(CrNi)N_xO_y膜层的厚度为0.5~5nm，可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

上述所述SnO₂保护层的厚度为30~40nm，耐腐蚀性好。

本发明具有如下优点：采用高折射率的Bi₂O₃折射层，可大大提高透光率，其透光率可达86%，而CrN_x阻挡层、ZrO抗氧化层及(CrNi)N_xO_y膜层的配合将降辐射镀Ag层夹在中间，阻挡外界对降辐射镀Ag层的腐蚀，提高其抗氧化性，与传统产品相比，可增加1年左右的存放时间。

附图说明：

图1为本发明结构剖视图。

具体实施方式：

如图1所示，一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，包括基板1、由下而上依次设于基板1的上表面的一Bi₂O₃折射层2、一CrN_x阻挡层3、一ZrO抗氧化层4、一降辐射镀Ag层5、一(CrNi)N_xO_y膜层6、以及一SnO₂保护层7。

所述基板1为玻璃或其他透明的高强度材料。

所述Bi₂O₃折射层2的厚度为15~25nm，具有高的折射率，其折射率可达2.3以上。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射Bi靶，用氩气及少量氧气作反应气体（氧气的量与功率成正比例关系），最终在基板表面形成Bi₂O₃折射层2。

所述CrN_x阻挡层3的厚度为0.5~3nm，防止降辐射镀Ag层被氧化。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气作反应气体，最终在Bi₂O₃折射层表面形成CrN_x阻挡层。

所述ZrO抗氧化层4的厚度为5~10nm，具有强的耐腐蚀性能，抗氧化性强。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射Zr靶，采用氩气、氧气做反应气体，氩氧比为1：2，最终在CrN_x阻挡层表面形成ZrO抗氧化层。

所述降辐射镀Ag层5的厚度为7~10nm，可大大降低红外辐射。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射银靶，最终在ZrO抗氧化层表面形成降辐射镀Ag层。

所述(CrNi)N_xO_y膜层6的厚度为0.5~5nm，其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射镍铬靶，用氮气做反应气体，渗少量氧气，最终在降辐射镀Ag层表面形成(CrNi)N_xO_y膜层，可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。